以硅為基底,采用反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)和自組裝技術(shù)制備疏水/超疏水表面,測量各表面的靜態(tài)接觸角和滾動角,借助高速攝像系統(tǒng)分析液滴滴落到不同硅表面的運(yùn)動特性。結(jié)果表明,微柱高度不同,接觸角隨微柱間距的變化規(guī)律不同;滾動角隨微柱高度的增加而增大,隨微柱間距的增加而減小。對于液滴在其上能夠發(fā)生滾動的硅表面,當(dāng)水平放置時(shí),液滴滴落后,鋪展系數(shù)和回彈系數(shù)均隨著跳動次數(shù)的增加逐漸減小,且滾動角越大,其減小速度越快;當(dāng)硅表面傾斜放置時(shí),若傾斜角小于滾動角,液滴滴落后的跳動距離越來越小,且滾動角越大,跳動距離減小的速度越快;若傾斜角大于滾動角,則液滴跳動距離越來越大,但滾動角越大,跳動距離增大的速度越小。

【文章頁數(shù)】：9 頁

【文章目錄】：
0 引言
1 實(shí)驗(yàn)
    1.1 實(shí)驗(yàn)過程
2 結(jié)果與討論
    2.1 試樣表面的三維形貌
    2.2 試樣表面靜態(tài)接觸角
    2.3 試樣的滾動角
    2.4 液滴滴落到硅表面后的運(yùn)動特性
        (1)β=0°時(shí),液滴的運(yùn)動過程
        (2)β≠0°時(shí),液滴的運(yùn)動過程
3 結(jié)論



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