基于偏光干涉平面超結(jié)構(gòu)的相位研究
發(fā)布時(shí)間:2023-06-10 10:49
超材料是一種由人工設(shè)計(jì)的周期性結(jié)構(gòu)材料,這類材料具有天然材料所不具備的超常物理特性,其特性主要源于亞波長(zhǎng)結(jié)構(gòu)單元。超材料的出現(xiàn)刷新了人們對(duì)自然界材料的傳統(tǒng)認(rèn)知,為材料科學(xué)的發(fā)展帶來(lái)了新的契機(jī)和動(dòng)力。本文利用雙折射基底制備的平面超結(jié)構(gòu)因其基底獨(dú)特的雙折射干涉特性,擴(kuò)展了超材料的研究范圍,也為優(yōu)化傳統(tǒng)電光器件的性能和新的功能性器件研發(fā)提供了參考。當(dāng)前對(duì)超材料的研究多集中在振幅的測(cè)量上,而相位作為電磁波的一個(gè)重要參數(shù),對(duì)光波的偏振轉(zhuǎn)換特性起決定作用,在微納偏光器件中承擔(dān)重要的角色。本文就平面超結(jié)構(gòu)及其相位特征進(jìn)行了研究。為了研究光波在界面?zhèn)鞑r(shí)的相位變化,本文首先在雙折射基底上蒸鍍金膜,然后在金膜基底上刻寫制備了“V”型平面超結(jié)構(gòu),自搭建偏光干涉微區(qū)相位測(cè)量系統(tǒng),在可見光波段對(duì)以上金膜和超平面結(jié)構(gòu)進(jìn)行了相位測(cè)量,結(jié)果表明金膜界面對(duì)光波相位無(wú)突變影響,而平面超結(jié)構(gòu)對(duì)入射光波有突變響應(yīng)。自建偏光干涉相位測(cè)量系統(tǒng)為微納結(jié)構(gòu)相位信息的精準(zhǔn)測(cè)量提供了新方法;論文根據(jù)瓊斯矩陣對(duì)雙折射晶體干涉理論進(jìn)行推導(dǎo),給出了一種理論分析平面超結(jié)構(gòu)相位的方法。主要工作包括以下幾個(gè)方面:1.介紹了超材料的基本概念和超常物...
【文章頁(yè)數(shù)】:80 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
ABSTRACT
1. 前言
1.1 超材料簡(jiǎn)介
1.1.1 超材料的研究背景
1.1.2 超材料的研究進(jìn)展
1.2 超材料的制備方法
1.2.1 激光直寫技術(shù)
1.2.2 激光全息技術(shù)
1.2.3 電子束刻蝕技術(shù)
1.2.4 聚焦離子束刻蝕技術(shù)
1.3 論文的研究意義和主要內(nèi)容
2. 雙折射晶體的偏光干涉測(cè)量
2.1 雙折射
2.2 雙折射晶體的瓊斯矩陣
2.3 垂直入射測(cè)量雙折射干涉現(xiàn)象
2.3.1 實(shí)驗(yàn)原理
2.3.2 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容
2.3.3 結(jié)果與討論
2.4 斜入射測(cè)量雙折射干涉現(xiàn)象
2.4.1 實(shí)驗(yàn)原理
2.4.2 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容
2.4.3 結(jié)果與討論
2.5 本章小結(jié)
3. 基于偏光干涉測(cè)量金屬膜的透射相位
3.1 金膜樣品的制備
3.2 金膜的瓊斯矩陣
3.3 實(shí)驗(yàn)測(cè)量
3.4 結(jié)果與討論
3.4.1 同偏振方向的透射相位
3.4.2 垂直偏振方向的透射相位
3.5 本章小結(jié)
4. 基于偏光干涉測(cè)量平面超材料的透射相位
4.1 基于雙折射基底的平面超材料
4.1.1 結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)與制備
4.1.2 SEM表征
4.2 平面超材料的瓊斯矩陣
4.3 實(shí)驗(yàn)測(cè)量
4.4 結(jié)果與討論
4.4.1 同偏振方向的透射相位
4.4.2 垂直偏振方向的透射相位
4.4.3 結(jié)果與討論
4.5 本章小結(jié)
結(jié)論
不足之處及展望
參考文獻(xiàn)
致謝
攻讀碩士期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文目錄
本文編號(hào):3832744
【文章頁(yè)數(shù)】:80 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
ABSTRACT
1. 前言
1.1 超材料簡(jiǎn)介
1.1.1 超材料的研究背景
1.1.2 超材料的研究進(jìn)展
1.2 超材料的制備方法
1.2.1 激光直寫技術(shù)
1.2.2 激光全息技術(shù)
1.2.3 電子束刻蝕技術(shù)
1.2.4 聚焦離子束刻蝕技術(shù)
1.3 論文的研究意義和主要內(nèi)容
2. 雙折射晶體的偏光干涉測(cè)量
2.1 雙折射
2.2 雙折射晶體的瓊斯矩陣
2.3 垂直入射測(cè)量雙折射干涉現(xiàn)象
2.3.1 實(shí)驗(yàn)原理
2.3.2 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容
2.3.3 結(jié)果與討論
2.4 斜入射測(cè)量雙折射干涉現(xiàn)象
2.4.1 實(shí)驗(yàn)原理
2.4.2 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容
2.4.3 結(jié)果與討論
2.5 本章小結(jié)
3. 基于偏光干涉測(cè)量金屬膜的透射相位
3.1 金膜樣品的制備
3.2 金膜的瓊斯矩陣
3.3 實(shí)驗(yàn)測(cè)量
3.4 結(jié)果與討論
3.4.1 同偏振方向的透射相位
3.4.2 垂直偏振方向的透射相位
3.5 本章小結(jié)
4. 基于偏光干涉測(cè)量平面超材料的透射相位
4.1 基于雙折射基底的平面超材料
4.1.1 結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)與制備
4.1.2 SEM表征
4.2 平面超材料的瓊斯矩陣
4.3 實(shí)驗(yàn)測(cè)量
4.4 結(jié)果與討論
4.4.1 同偏振方向的透射相位
4.4.2 垂直偏振方向的透射相位
4.4.3 結(jié)果與討論
4.5 本章小結(jié)
結(jié)論
不足之處及展望
參考文獻(xiàn)
致謝
攻讀碩士期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文目錄
本文編號(hào):3832744
本文鏈接:http://sikaile.net/kejilunwen/cailiaohuaxuelunwen/3832744.html
最近更新
教材專著