酸性氧化鋁納米顆粒的穩(wěn)定性研究及在化學(xué)機(jī)械拋光中的應(yīng)用
發(fā)布時(shí)間:2023-06-03 09:45
隨著第三代半導(dǎo)體材料SiC的廣泛應(yīng)用,工業(yè)上對(duì)其表面平整度提出了更高的要求,而目前為止,化學(xué)機(jī)械拋光是唯一能實(shí)現(xiàn)碳化硅晶圓表面光滑平整無缺陷的技術(shù)�;瘜W(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的工藝過程,易受拋光液pH、氧化劑、拋光參數(shù)、電解質(zhì)等等多種因素的影響,其中,磨料及其穩(wěn)定性是最主要的影響因素。拋光過程中由于拋光或者研磨導(dǎo)致的劃痕是造成表面缺陷的主要因素。而劃痕與磨料的硬度和穩(wěn)定性密切相關(guān)。如果磨料的硬度過硬,則會(huì)對(duì)晶圓表面造成劃痕、斑點(diǎn)等一系列不可逆轉(zhuǎn)的缺陷,而如果磨料太軟,則無法將不平整的材料移除。此外,磨料顆粒發(fā)生聚集形成大的聚集顆粒,即使只有極少量的大聚集顆粒也會(huì)造成晶圓的表面劃痕。因此,選擇合適硬度的磨料并使其穩(wěn)定分散是化學(xué)機(jī)械拋光的首要問題。目前,碳化硅CMP中常用的是堿性氧化硅拋光液。由于Si02磨料硬度較低,材料移除率過低,造成拋光時(shí)間長、成本高等一系列缺點(diǎn),因此,硬度僅次于SiC的氧化鋁磨料(莫氏硬度9)就成為研究的熱點(diǎn)。目前,對(duì)氧化鋁水分散體系穩(wěn)定性的研究主要集中在堿性條件下研究,對(duì)低pH(酸性)尤其是強(qiáng)氧化劑存在下的穩(wěn)定性研究較少。由于SiC的強(qiáng)化學(xué)惰性,為強(qiáng)化CMP中的化學(xué)氧...
【文章頁數(shù)】:143 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
中文摘要
Abstract
第一章 前言
1.1 研究背景及立題意義
1.2 CMP簡介
1.3 納米顆粒分散穩(wěn)定性
1.4 碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展
1.5 本文主要內(nèi)容
參考文獻(xiàn)
第二章 酸性氧化鋁磨料在氧化劑溶液中的分散穩(wěn)定性
2.1 引言
2.2 儀器和藥品
2.2.1 主要儀器及設(shè)備
2.2.2 原料及試劑
2.3 實(shí)驗(yàn)方法
2.3.1 氧化鋁的處理
2.3.2 氧化鋁等電點(diǎn)的測定
2.3.3 臨界聚沉鹽濃度的測定
2.3.4 硝酸鋁對(duì)氧化鋁的影響
2.3.5 顆粒在鹽溶液中的穩(wěn)定性評(píng)價(jià)
2.4 結(jié)果與討論
2.4.1 氧化鋁的表征
2.4.2 硝酸鋁的影響
2.4.3 鹽和氧化劑的影響
2.5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第三章 氧化鋁-氧化硅及氧化鋁-氧化錳體系穩(wěn)定性
3.1 引言
3.2 儀器和藥品
3.2.1 主要儀器及設(shè)備
3.2.2 原料及試劑
3.3 實(shí)驗(yàn)方法
3.3.1 氧化鋁、氧化硅的處理
3.3.2 氧化硅吸附對(duì)氧化鋁穩(wěn)定性的影響
3.3.3 錳化合物的生成對(duì)體系穩(wěn)定性的影響
3.3.4 硝酸鋁的影響
3.3.5 體系穩(wěn)定性評(píng)價(jià)
3.4 結(jié)果與討論
3.4.1 氧化硅對(duì)氧化鋁分散體系穩(wěn)定性影響
3.4.2 錳氧化物的生成對(duì)氧化鋁分散穩(wěn)定性的影響
3.5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第四章 酸性氧化鋁拋光液在碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光中的應(yīng)用
4.1 引言
4.2 儀器和藥品
4.2.1 主要儀器及設(shè)備
4.2.2 原料及試劑
4.3 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容
4.3.1 氧化鋁拋光液配制
4.3.2 氧化劑的配制
4.3.3 化學(xué)機(jī)械拋光
4.4 結(jié)果與討論
4.4.1 高錳酸鉀濃度對(duì)拋光性能的影響
4.4.2 硝酸鋁對(duì)拋光性能的影響
4.5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
論文的創(chuàng)新性和不足
致謝
碩士期間發(fā)表論文情況
附件
學(xué)位論文評(píng)閱及答辯情況表
本文編號(hào):3829100
【文章頁數(shù)】:143 頁
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【文章目錄】:
中文摘要
Abstract
第一章 前言
1.1 研究背景及立題意義
1.2 CMP簡介
1.3 納米顆粒分散穩(wěn)定性
1.4 碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液的研究進(jìn)展
1.5 本文主要內(nèi)容
參考文獻(xiàn)
第二章 酸性氧化鋁磨料在氧化劑溶液中的分散穩(wěn)定性
2.1 引言
2.2 儀器和藥品
2.2.1 主要儀器及設(shè)備
2.2.2 原料及試劑
2.3 實(shí)驗(yàn)方法
2.3.1 氧化鋁的處理
2.3.2 氧化鋁等電點(diǎn)的測定
2.3.3 臨界聚沉鹽濃度的測定
2.3.4 硝酸鋁對(duì)氧化鋁的影響
2.3.5 顆粒在鹽溶液中的穩(wěn)定性評(píng)價(jià)
2.4 結(jié)果與討論
2.4.1 氧化鋁的表征
2.4.2 硝酸鋁的影響
2.4.3 鹽和氧化劑的影響
2.5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第三章 氧化鋁-氧化硅及氧化鋁-氧化錳體系穩(wěn)定性
3.1 引言
3.2 儀器和藥品
3.2.1 主要儀器及設(shè)備
3.2.2 原料及試劑
3.3 實(shí)驗(yàn)方法
3.3.1 氧化鋁、氧化硅的處理
3.3.2 氧化硅吸附對(duì)氧化鋁穩(wěn)定性的影響
3.3.3 錳化合物的生成對(duì)體系穩(wěn)定性的影響
3.3.4 硝酸鋁的影響
3.3.5 體系穩(wěn)定性評(píng)價(jià)
3.4 結(jié)果與討論
3.4.1 氧化硅對(duì)氧化鋁分散體系穩(wěn)定性影響
3.4.2 錳氧化物的生成對(duì)氧化鋁分散穩(wěn)定性的影響
3.5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第四章 酸性氧化鋁拋光液在碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光中的應(yīng)用
4.1 引言
4.2 儀器和藥品
4.2.1 主要儀器及設(shè)備
4.2.2 原料及試劑
4.3 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容
4.3.1 氧化鋁拋光液配制
4.3.2 氧化劑的配制
4.3.3 化學(xué)機(jī)械拋光
4.4 結(jié)果與討論
4.4.1 高錳酸鉀濃度對(duì)拋光性能的影響
4.4.2 硝酸鋁對(duì)拋光性能的影響
4.5 本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
論文的創(chuàng)新性和不足
致謝
碩士期間發(fā)表論文情況
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本文編號(hào):3829100
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