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聚合物復(fù)合陣列材料的制備及結(jié)構(gòu)尺寸調(diào)控性研究

發(fā)布時(shí)間:2023-05-04 03:01
  在諸如慣性約束聚變(ICF)的聚變類激光物理實(shí)驗(yàn)中,診斷X射線所需的高時(shí)空分辨率輻射源是近年來的研究熱點(diǎn)。實(shí)驗(yàn)中使用了金屬微/納米線來獲取成像和光譜信息,由于具有高能量傳遞效率、超熱電子密度和高X射線增益等優(yōu)點(diǎn),使金屬微/納米線陣列成為性能優(yōu)異的強(qiáng)輻射源材料。本文嘗試通過對(duì)內(nèi)部包埋特定陣列結(jié)構(gòu)的聚合物預(yù)制棒通過多級(jí)熱拉伸,得到多孔聚合物模板,配合電化學(xué)沉積法成功在模板中生長了銅微米線陣列。對(duì)實(shí)驗(yàn)所使用的兩種原材料PMMA與PS進(jìn)行流變性能測(cè)試,兩種材料的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度分別為104.32℃與105.93℃,在75s-1的剪切速率下兩種材料的粘度接近957pas。在拉伸速率0.5mm/min時(shí)可得到外徑穩(wěn)定的聚合物方形絲,用此速率拉伸可獲得內(nèi)外徑比例在0.49-0.51之間的PMMA/PS復(fù)合絲。設(shè)計(jì)制備了兩種不同規(guī)格的具有編碼結(jié)構(gòu)的PMMA多孔模板,6孔的3×3結(jié)構(gòu)孔徑與間距為5μm,26孔的7×7結(jié)構(gòu)孔徑與間距為2μm,通過切割控制模板的厚度,實(shí)驗(yàn)中通過減小復(fù)合絲直徑還可使孔徑間距減小到900nm,孔徑與設(shè)計(jì)值之間偏差在10%左右。利用等離子清洗提高模板表面的浸潤...

【文章頁數(shù)】:47 頁

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【文章目錄】:
摘要
Abstract
第1章 前言
    1.1 微納米陣列材料
    1.2 模板法制備微納米線陣列
    1.3 電化學(xué)沉積方法
    1.4 課題的選題背景
        1.4.1 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀及存在問題
        1.4.2 本課題研究進(jìn)展
第2章 實(shí)驗(yàn)部分
    2.1 實(shí)驗(yàn)原料
    2.2 實(shí)驗(yàn)儀器
    2.3 樣品制備過程
        2.3.1 制備聚合物模板
        2.3.2 制備金屬線陣列
    2.4 表征方式
第3章 原材料的特性測(cè)試
    3.1 流變性能測(cè)試
    3.2 形態(tài)變化分析
    3.3 模板浸潤性測(cè)試
    3.4 可溶性測(cè)試
    3.5 本章小節(jié)
第4章 編碼陣列模板制備技術(shù)研究
    4.1 制備3×3陣列結(jié)構(gòu)模板
    4.2 制備7×7陣列結(jié)構(gòu)模板
    4.3 本章小結(jié)
第5章 電化學(xué)沉積制備復(fù)合陣列
    5.1 聚合物模板電化學(xué)特性測(cè)試
    5.2 金屬線陣列結(jié)構(gòu)與形貌分析
    5.3 本章小節(jié)
第6章 結(jié)論與展望
參考文獻(xiàn)
致謝
在學(xué)期間的科研情況



本文編號(hào):3807818

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