為了研究Ar/N2流量比對(duì)Ti N薄膜耐蝕性的影響,采用反應(yīng)直流磁控濺射法在304不銹鋼上制備Ti N薄膜。研究了在濺射沉積過程中Ar/N2氣體流量比對(duì)Ti N薄膜結(jié)構(gòu)形貌和耐腐蝕性能的影響,并對(duì)結(jié)果進(jìn)行了分析。結(jié)果表明:在保持其他工藝參數(shù)不變的情況下,增大N2流量制備Ti N薄膜,薄膜主要成分為Ti N,Ti2N和Ti N0.3;在高的Ar/N2條件下,即低的氮分壓下,薄膜生長(zhǎng)呈任意取向,在低的Ar/N2條件下,即高的氮分壓下,薄膜(200)擇優(yōu)取向;氬氮流量比為50∶5時(shí),電阻率最小,為0.002Ω·m,薄膜具有良好的導(dǎo)電性;當(dāng)氬氮流量比為50∶5時(shí),Ti N表面平整,呈現(xiàn)細(xì)小顆粒狀,并且通過鹽霧腐蝕試驗(yàn)可知,此時(shí)Ti N薄膜的耐腐蝕性能最好。

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【文章目錄】：
0前言
1 試驗(yàn)
    1.1 樣品的制備
    1.2 樣品的測(cè)試
2 結(jié)果與討論
    2.1 物相分析
    2.2 薄膜的表面形貌
    2.3 Ti N薄膜厚度
    2.4 Ti N薄膜結(jié)合力
    2.5 Ti N薄膜的電學(xué)性能
    2.6 Ti N薄膜的耐腐蝕性能
3 結(jié)論



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