日益嚴(yán)重的水污染問題已成為全球面臨的重大難題。解決水污染問題的方法之一是光催化技術(shù)的應(yīng)用,其能有效利用太陽能降解污染物,且具有反應(yīng)過程快速高效,耗能少,不易產(chǎn)生二次污染等優(yōu)點(diǎn)。光催化技術(shù)中的重點(diǎn)是研究高效率且穩(wěn)定的光催化劑。聚酰亞胺(PI)是具有可見光響應(yīng)的聚合物半導(dǎo)體材料,因其獨(dú)特的化學(xué)穩(wěn)定性和易于調(diào)控結(jié)構(gòu)等特點(diǎn),使其在光催化領(lǐng)域具有較好的應(yīng)用前景�；诖�,本論文設(shè)計(jì)合成系列聚酰亞胺基復(fù)合光催化材料,通過紫外-可見光催化降解染料溶液評(píng)估材料的光催化活性,并對(duì)光催化劑的穩(wěn)定性及光催化機(jī)理進(jìn)行探討,主要研究?jī)?nèi)容如下:(1)采用沉淀法制得ZnO,再采用一鍋煅燒法制備了PI/WO₃/ZnO(PWZ)復(fù)合光催化劑,利用XRD、FT-IR、SEM、EDS等表征手段對(duì)光催化材料的物相結(jié)構(gòu)、組成和形貌進(jìn)行測(cè)試。以羅丹明B(RhB)染料溶液作為水污染模型,探討了PWZ復(fù)合光催化劑制備中ZnO的添加量、升溫速率、反應(yīng)溫度對(duì)其光催化降解活性的影響,優(yōu)化得到性能最佳的復(fù)合光催化劑PWZ(0.2 g,3°C/min,325°C)。即當(dāng)ZnO含量為0.2 g,升溫速率為3°C/min,反應(yīng)...

【文章頁數(shù)】：86 頁

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第1章 前言
    1.1 光催化技術(shù)
    1.2 光催化技術(shù)的基本原理
    1.3 半導(dǎo)體光催化材料的發(fā)展
    1.4 無機(jī)半導(dǎo)體光催化材料
        1.4.1 過渡金屬氧化物
        1.4.2 鉍系化合物
        1.4.3 其他無機(jī)半導(dǎo)體光催化材料
    1.5 有機(jī)聚合物半導(dǎo)體光催化材料
        1.5.1 聚酰亞胺(PI)
            1.5.1.1 聚酰亞胺的發(fā)展
            1.5.1.2 聚酰亞胺簡(jiǎn)介
            1.5.1.3 聚酰亞胺復(fù)合材料合成方法
            1.5.1.4 聚酰亞胺在光催化方面的應(yīng)用
        1.5.2 石墨相氮化碳(g-C₃N₄)
        1.5.3 多孔有機(jī)骨架(POF)
    1.6 選題意義和研究?jī)?nèi)容
第2章 PI/WO₃/ZnO復(fù)合光催化劑的制備及其降解染料性能研究
    2.1 引言
    2.2 實(shí)驗(yàn)部分
        2.2.1 實(shí)驗(yàn)試劑與儀器
        2.2.2 光催化劑的制備
        2.2.3 樣品表征
        2.2.4 光催化降解實(shí)驗(yàn)
    2.3 結(jié)果與討論
        2.3.1 XRD物相分析
        2.3.2 SEM形貌和結(jié)構(gòu)分析
        2.3.3 FT-IR譜圖分析
        2.3.4 紫外漫反射光譜圖
        2.3.5 光電化學(xué)性質(zhì)
    2.4 光催化活性研究
    2.5 光催化劑的穩(wěn)定性
    2.6 光催化機(jī)理
    2.7 本章小結(jié)
第3章 PI/Bi₂WO₆ 復(fù)合物的制備及其光催化降解染料性能研究
    3.1 前言
    3.2 實(shí)驗(yàn)部分
        3.2.1 試劑及儀器
        3.2.2 光催化劑的制備
        3.2.3 樣品表征
        3.2.4 光催化降解實(shí)驗(yàn)
    3.3 結(jié)果與討論
        3.3.1 XRD物相分析
        3.3.2 SEM形貌與結(jié)構(gòu)分析
        3.3.3 FT-IR譜圖分析
        3.3.4 紫外漫反射及能帶譜圖分析
        3.3.5 光電化學(xué)性質(zhì)
    3.4 光催化活性研究
    3.5 光催化劑的穩(wěn)定性
    3.6 光催化機(jī)理
    3.7 本章小結(jié)
第4章 PI/MoO₃/g-C₃N₄ 復(fù)合物的制備及其對(duì)染料的光催化降解性能研究
    4.1 前言
    4.2 實(shí)驗(yàn)部分
        4.2.1 實(shí)驗(yàn)試劑及儀器
        4.2.2 光催化劑的制備
        4.2.3 光催化劑表征
        4.2.4 光催化降解實(shí)驗(yàn)
    4.3 結(jié)果與討論
        4.3.1 XRD物相分析
        4.3.2 SEM形貌分析
        4.3.3 FT-IR譜圖分析
        4.3.4 紫外漫反射及能帶譜圖
        4.3.5 光電化學(xué)性質(zhì)
    4.4 光催化活性研究
    4.5 光催化劑的穩(wěn)定性
    4.6 光催化機(jī)理
    4.7 本章小結(jié)
第5章 結(jié)論與展望
    5.1 總結(jié)
    5.2 存在的問題及展望
參考文獻(xiàn)
致謝
在學(xué)期間的科研情況



本文編號(hào)：3774686