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TiAlN/VN納米多層膜的微結(jié)構(gòu)與力學(xué)和摩擦學(xué)性能

發(fā)布時間:2023-03-04 10:04
  采用反應(yīng)磁控濺射制備了Ti Al N/VN納米多層膜,并使用X射線衍射分析(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)、納米壓痕儀和多功能摩擦磨損試驗機對多層膜的微結(jié)構(gòu)與力學(xué)和摩擦學(xué)性能進行了表征和分析。研究結(jié)果表明:不同調(diào)制周期的Ti Al N/VN多層膜均呈典型的柱狀晶生長結(jié)構(gòu),插入VN層并沒有打斷Ti Al N涂層柱狀晶的生長。在一定調(diào)制周期下,Ti Al N/VN納米多層膜中的Ti Al N和VN層之間能夠形成共格生長結(jié)構(gòu),其硬度和彈性模量相比于Ti Al N單層膜均有顯著提升,其中,Ti Al N(10 nm)/VN(10 nm)的硬度和彈性模量最大增量分別達到39.3%和40.9%。Ti Al N/VN納米多層膜的強化主要與其共格界面生長結(jié)構(gòu)有關(guān)。另外,Ti Al N單層膜的摩擦系數(shù)較高(0.9),通過周期性地插入摩擦系數(shù)較低的VN層能夠使得Ti Al N的摩擦系數(shù)大大降低,Ti Al N/VN納米多層膜的摩擦系數(shù)最低為0.4。

【文章頁數(shù)】:5 頁

【文章目錄】:
1 實驗方法
2 結(jié)果與討論
3 結(jié)論



本文編號:3754078

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