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C/C復合材料ZrB 2 -SiC基陶瓷涂層的微觀結(jié)構(gòu)及氧化機理

發(fā)布時間:2023-02-25 21:05
  為提高C/C復合材料在高溫富氧環(huán)境中的抗氧化性能,采用兩步刷涂+化學氣相沉積法在C/C復合材料表面制備含Si3N4、MoSi2、TaC等添加劑的ZrB2-SiC基多層復合陶瓷涂層。利用XRD和SEM等分析測試手段研究涂層的物相組成和微觀結(jié)構(gòu),并分析討論涂層在900和1500℃的等溫抗氧化機理。結(jié)果表明:利用兩步刷涂+化學氣相沉積法制備的ZrB2-SiC基復合陶瓷涂層整體厚度約為200μm。Si3N4、MoSi2可很好地促進ZrB2-SiC基氧阻擋層的高溫燒結(jié),使涂層致密化,并提高涂層在900℃的抗氧化性能;與之相比,TaC則不能很好地發(fā)揮致密化作用,對涂層在900℃時抗氧化性能的提高有限。在900℃時,ZrB2-SiC基陶瓷涂層的氧化過程主要受氧在涂層孔隙等缺陷中的擴散所控制,添加劑主要通過改變涂層的致密化程度來影響涂層的抗氧化性能。在1500℃氧化過程中,涂層抗氧化性能惡化,但致密的化學氣相沉積SiC封填層的引...

【文章頁數(shù)】:9 頁

【文章目錄】:
1 實驗
    1.1 涂層制備
    1.2 氧化實驗
    1.3 檢測分析
2 結(jié)果與分析
    2.1 涂層的組織結(jié)構(gòu)
    2.2 抗氧化性能
    2.3 氧化后涂層物相及微觀結(jié)構(gòu)
    2.4 氧化機理研究
3 結(jié)論



本文編號:3749196

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