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TiAlN/TiN納米多層膜的微結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能

發(fā)布時間:2022-12-06 21:26
  采用多靶反應(yīng)磁控濺射制備了一系列TiAlN層厚固定,TiN層厚在一定范圍內(nèi)連續(xù)變化的不同調(diào)制結(jié)構(gòu)的TiAlN/TiN納米多層膜,并使用X射線衍射分析、掃描電子顯微鏡、納米壓痕儀和CETR-UMT-3型多功能摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)對多層膜的微觀結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能進(jìn)行了表征和分析。研究結(jié)果表明:TiAlN/TiN納米多層膜形成了周期性良好的成分調(diào)制結(jié)構(gòu),其中TiN層的插入并沒有打斷TiAlN層的柱狀晶生長。在一定的調(diào)制周期下,TiN層和TiAlN層能夠形成共格外延生長結(jié)構(gòu),多層膜呈現(xiàn)硬度異常升高的超硬效應(yīng),當(dāng)TiN層厚約為1.6 nm時多層膜的硬度達(dá)到最大值50 GPa,并具有相比于TiAlN單層膜更低的摩擦系數(shù)。進(jìn)一步增加TiN層厚,由于多層膜共格界面結(jié)構(gòu)的破壞,多層膜的硬度隨之降低。 

【文章頁數(shù)】:6 頁

【文章目錄】:
1 實(shí)驗(yàn)
    1.1 薄膜制備
    1.2 結(jié)構(gòu)及性能表征
2 結(jié)果與討論
    2.1 微結(jié)構(gòu)分析
    2.2 力學(xué)性能分析
3 結(jié)論



本文編號:3711660

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