發(fā)布時(shí)間：2022-07-07 09:44

　　采用復(fù)合靶射頻磁控濺射方法制備了ZnO/TiO₂復(fù)合薄膜,對(duì)薄膜500℃退火處理2 h。利用XRD和AFM對(duì)薄膜的晶體結(jié)構(gòu)和表面微觀形貌進(jìn)行了表征,分析討論了不同濺射時(shí)間下制備的薄膜的親水性。結(jié)果表明:濺射時(shí)間為120 min時(shí)制備的薄膜經(jīng)過退火處理后,具有銳鈦礦和金紅石混晶結(jié)構(gòu),而且具備最佳的親水性和光致親水性。 

【文章頁數(shù)】：5 頁

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)部分
    1.1 主要原料與儀器
    1.2 Zn O/Ti O2復(fù)合薄膜的制備
    1.3 性能表征
2 結(jié)果和討論
    2.1 薄膜表面形貌
    2.2 薄膜晶體結(jié)構(gòu)
    2.3 Zn O/Ti O2復(fù)合薄膜的親水性分析
        2.3.1 無退火薄膜的親水性
        2.3.2 退火處理后薄膜的親水性
        2.3.3 紫外光照射前后Zn O/Ti O2薄膜的親水性
3 結(jié)語


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]稀土元素負(fù)載改性TiO2紫外光催化降解林丹[J]. 朱榮淑,田斐,曾勝.  中南大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2015(03)
[2]O2分壓和退火對(duì)TiO2/SiO2納米多層膜結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能的影響[J]. 張瑞奇,董磊,李德軍,劉孟寅.  光電子.激光. 2012(12)
[3]磁控濺射法ZnO-TiO2復(fù)合薄膜的制備及性能[J]. 邵紅紅,都紅,王季.  金屬熱處理. 2012(05)



本文編號(hào)：3656193