采用反應(yīng)磁控濺射工藝在Si基體上沉積了不同調(diào)制周期的CrAlN/WS₂納米多層膜,采用X射線衍射儀（XRD）、高分辨透射電子顯微鏡（HRTEM）、納米壓痕儀和HSR-2M涂層摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)、掃描電子顯微鏡（SEM）,研究了調(diào)制周期對(duì)CrAlN/WS₂納米多層膜微觀結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能的影響。研究結(jié)果表明,WS₂層厚度低于0.8nm時(shí),六方結(jié)構(gòu)的WS₂在CrAlN的模板作用下轉(zhuǎn)變?yōu)锽1-NaCl型面心立方結(jié)構(gòu)并與CrAlN層發(fā)生共格外延生長(zhǎng),使薄膜得到強(qiáng)化,在WS₂層厚度為0.8nm時(shí),薄膜硬度和彈性模量達(dá)到最大,分別為37.3和341.2GPa。隨著WS₂層厚度的進(jìn)一步增加,WS₂又轉(zhuǎn)變回六方結(jié)構(gòu),使薄膜共格外延生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)破壞,結(jié)晶度降低,耐磨性增強(qiáng),硬度和彈性模量減小。CrAlN/WS₂納米多層膜的摩擦系數(shù)均在0.2⁰.3之間,遠(yuǎn)低于單層CrAlN的摩擦系數(shù)的0.6,磨損率亦明顯減小。獲得了綜合力... 

【文章來(lái)源】：功能材料. 2016,47(12)北大核心CSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：6 頁(yè)

【文章目錄】：
0 引言
1 實(shí)驗(yàn)
    1.1 薄膜的制備
    1.2 薄膜的表征
2 結(jié)果與討論
    2.1 WS2層厚度對(duì)CrAlN/WS2納米多層膜微觀結(jié)構(gòu)的影響
    2.2 WS2層厚度對(duì)CrAlN/WS2納米多層膜硬度和彈性模量的影響
    2.3 WS2層厚度對(duì)CrAlN/WS2納米多層膜摩擦磨損性能的影響
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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[2]陶瓷硬質(zhì)納米多層膜研究進(jìn)展[J]. 孔明,岳建嶺,李戈揚(yáng).  無(wú)機(jī)材料學(xué)報(bào). 2010(02)
[3]納米表面工程的進(jìn)展與展望[J]. 徐濱士,劉世參,梁秀兵.  機(jī)械工程學(xué)報(bào). 2003(10)



本文編號(hào)：3575104