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濺射功率對磁控濺射法制備MgF 2 薄膜組織和性能的影響(英文)

發(fā)布時間:2022-01-05 07:22
  為了減少磁控濺射法沉積MgF2薄膜的F貧乏缺陷,在工作氣體Ar2中加入SF6作為反應氣體,在石英玻璃襯底上用射頻磁控濺射法制備了MgF2薄膜,研究了濺射功率對MgF2薄膜化學成分、微觀結構和光學性能的影響。結果表明,隨著濺射功率從115 W增加到220 W, F:Mg的原子比不斷增加, 185 W時達到2.02,最接近理想化學計量比2:1;薄膜的結晶度先提高后降低,最后轉變?yōu)榉蔷B(tài); MgF2薄膜的顆粒尺寸先是有所增加,輪廓也變得更加清晰,最后又變得模糊。MgF2薄膜的折射率先減小后增大,在185W時獲得最低值,550nm波長的折射率1.384非常接近MgF2塊體晶體;鍍膜玻璃在300~1100 nm范圍內(nèi)的透光率(以下簡稱薄膜透光率)先增大后減小, 185 W時達到94.99%,比玻璃基底的透光率高出1.79%。 

【文章來源】:無機材料學報. 2020,35(09)北大核心EISCICSCD

【文章頁數(shù)】:7 頁

【文章目錄】:
1 Experimental
    1.1 Film preparation
    1.2 Characterization
2 Results and discussion
    2.1 F:Mg molar ratio of thin films
    2.2 Micro structure
    2.3 Surface morphology
    2.4 Optical properties
3 Conclusions


【參考文獻】:
期刊論文
[1]火星表面環(huán)境對太陽電池陣設計影響分析與對策[J]. 劉治鋼,王飛,陳燕,黃三玻,郭偉峰,林文立.  航天器工程. 2016(02)



本文編號:3570004

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