發(fā)布時間：2021-11-18 09:12

　　運(yùn)用原位氧化聚合法,以十二烷基苯磺酸鈉（SDBS）為摻雜劑,在石英基片表面制備了摻雜聚吡咯（PPY）薄膜。通過傅里葉變換紅外光譜儀、X射線光電子能譜儀和掃描電鏡表征了薄膜的結(jié)構(gòu)和微觀形貌,并通過四探針測試儀和矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀測試了它的導(dǎo)電性和吸波特性。相比于未摻雜的聚吡咯薄膜,SDBS摻雜PPY薄膜的均勻性和致密性更高,導(dǎo)電性和吸波特性也有所改善。 

【文章來源】：電鍍與涂飾. 2020,39(16)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：5 頁

【部分圖文】：

聚吡咯原位氧化聚合機(jī)理

從圖2可見，C、N、Cl、O等元素的特征峰表明聚合物中有吡咯環(huán)。氧元素則可能是由于聚吡咯的多孔性質(zhì)，物理吸附了空氣中的氧所致，氧并不與聚合物中的C、N發(fā)生化學(xué)鍵合。Cl離子的結(jié)合能為197.8 e V，表明聚合反應(yīng)時，Cl沒有參與氧化還原反應(yīng)[7]。2.2 紅外光譜分析

未摻雜(左)與SDBS摻雜(右)聚吡咯薄膜的紅外光譜圖

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號：3502626