Cu/Ta納米多層膜在單軸拉伸下的尺寸效應(yīng)與變形機(jī)理的分子動(dòng)力學(xué)模擬
發(fā)布時(shí)間:2021-11-12 01:08
納米金屬多層膜是在單層膜和復(fù)合膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種新型薄膜,它具有整體材料和單一材料都難以達(dá)到的某些特殊性能,在航空航天、機(jī)械加工等領(lǐng)域具有良好的發(fā)展及應(yīng)用前景,因此納米金屬多層膜吸引了眾多學(xué)者的目光并成為材料研究中的一個(gè)熱點(diǎn)。近年來(lái),大量學(xué)者通過實(shí)驗(yàn)探究發(fā)現(xiàn)納米多層膜具有優(yōu)異的力學(xué)性能,例如高強(qiáng)度、高硬度和高韌性等,但是其內(nèi)在的強(qiáng)韌化機(jī)理尚未完全明確。目前,fcc/fcc同相界面結(jié)構(gòu)多層膜的變形和強(qiáng)韌化機(jī)理已通過分子動(dòng)力學(xué)方法得以解釋和理解。但是,對(duì)于具有兩相界面結(jié)構(gòu)(fcc/bcc、fcc/hcp)的納米多層膜,相應(yīng)的潛在機(jī)理和理論研究相對(duì)較少。因此,本文擬通過分子動(dòng)力學(xué)方法研究Cu/Ta納米多層膜在單軸拉伸下的尺寸效應(yīng)與變形機(jī)理。本文中建立了不同晶向的Cu、Ta單質(zhì)薄膜以及Cu/Ta納米多層膜模型,并模擬了調(diào)制周期(λ)、界面構(gòu)型、溫度(T)以及調(diào)制比(r)對(duì)材料力學(xué)特性的影響。最后結(jié)合應(yīng)力應(yīng)變(σ-ε)曲線從原子尺度揭示了Cu/Ta納米多層膜的變形機(jī)理。本文的主要研究?jī)?nèi)容及結(jié)論如下:(1)對(duì)兩種典型晶向的Cu、Ta單質(zhì)薄膜進(jìn)行了模擬和分析。研究結(jié)果表明,<112>...
【文章來(lái)源】:重慶大學(xué)重慶市 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁(yè)數(shù)】:68 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【部分圖文】:
多層膜結(jié)構(gòu)模型
格取向的 Cu 單質(zhì)薄膜模型:(a)K-S 型,(bls of Cu films with different lattice orientation: (a 單質(zhì)薄膜初始條件的設(shè)定保持一致,在NPT 系綜下弛豫階段采用的步長(zhǎng)為 0.001態(tài)。之后在 NPT 系綜下對(duì)弛豫后的薄膜應(yīng)變率為 109/s,溫度為 10K。整個(gè)模擬、動(dòng)能、勢(shì)能以及原子坐標(biāo)。模擬結(jié)果及分析關(guān)系在材料的性能研究中具有重要作用,質(zhì)薄膜沿 x 軸拉伸過程中對(duì)應(yīng)的 - 曲線的 Cu 單質(zhì)薄膜都先進(jìn)入彈性變形階段入塑性流動(dòng)階段;K-S型Cu單質(zhì)薄膜的膜的屈服強(qiáng)度為 6.532Gpa;進(jìn)入塑性流動(dòng)
圖 3.2 Cu 單質(zhì)薄膜單軸加載下的 - 曲線,拉伸應(yīng)變率為 109/s,溫度為 10K.2 The - curves of Cu films under uniaxial loading, under tensile strain rate of 109/s, a3 Cu 單質(zhì)薄膜的微觀變形機(jī)制圖 3.3(a-d)中給出了 K-S 型 Cu 單質(zhì)薄膜在單軸加載過程中不同 下的結(jié)構(gòu),位錯(cuò)線由 DXA 命令識(shí)別。如圖 3.3(a)所示,此時(shí) Cu 單質(zhì)薄膜原有的原子排列結(jié)構(gòu)沒有位錯(cuò)缺陷產(chǎn)生,對(duì)應(yīng)圖 3.2 中黑色 - 曲線彈性。隨著 增加 Cu 單質(zhì)薄膜表面附近的原子在外力和內(nèi)部原子拉力的作用動(dòng),當(dāng) =0.060 時(shí)薄膜表面有<112>不全位錯(cuò)(識(shí)別為綠色)形核并在薄殖滑移(圖 3.3(b)),從而導(dǎo)致 Cu 單質(zhì)薄膜開始發(fā)生屈服,相對(duì)應(yīng)的色 - 曲線出現(xiàn)了峰值。繼續(xù)增加 薄膜進(jìn)入塑性變形階段,當(dāng) =0.06部有大量不同晶向的位錯(cuò)產(chǎn)生,位錯(cuò)的形核使得薄膜強(qiáng)度降低而位錯(cuò)間用又使得 Cu 單質(zhì)薄膜得到強(qiáng)化(如圖 3.3(c)),因此對(duì)應(yīng)的 - 曲線在階段是不斷上下波動(dòng)的,但整體表現(xiàn)為下降趨勢(shì),如圖 3.2 中黑色曲線不斷加載 Cu 單質(zhì)薄膜最終進(jìn)入到塑性流動(dòng)階段,當(dāng) =0.149 時(shí)薄膜內(nèi)部
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Progress in application and preparation of silver nanowires[J]. Xiong-Zhi Xiang,Wen-Ya Gong,Ming-Sheng Kuang,Lei Wang. Rare Metals. 2016(04)
[2]Interfacial Structures Governed Plastic Deformation Behaviors in Metallic Multilayers[J]. Ming-Zhen Wei,Zhen-Hua Cao,Xiang-Kang Meng. Acta Metallurgica Sinica(English Letters). 2016(02)
[3]The mechanical behavior of nanoscale metallic multilayers:A survey[J]. Q.Zhou,J.Y.Xie,F.Wang,P.Huang,K.W.Xu,T.J.Lu. Acta Mechanica Sinica. 2015(03)
[4]金納米棒的光學(xué)性質(zhì)及其在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用[J]. 劉媚,楊培慧,蔡繼業(yè). 生物化學(xué)與生物物理進(jìn)展. 2009(11)
[5]電化學(xué)法制備組分調(diào)制納米多層膜的研究現(xiàn)狀[J]. 徐峰,呂憶農(nóng),謝燕,劉云飛. 腐蝕科學(xué)與防護(hù)技術(shù). 2008(01)
[6]電沉積金屬多層膜的研究現(xiàn)狀[J]. 張英杰,蘇玉華,范云鷹. 材料保護(hù). 2007(08)
[7]納米多層膜的制備方法及比較[J]. 楊會(huì)靜,孫立萍,劉長(zhǎng)虹. 唐山師范學(xué)院學(xué)報(bào). 2006(05)
[8]電刷鍍Cu/Ni納米多層膜鍍液的研究[J]. 譚俊,楊紅軍,郭文才. 中國(guó)表面工程. 2005(04)
[9]TiN/Si3N4納米多層膜的生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)與超硬效應(yīng)[J]. 胡曉萍,董云杉,孔明,李戈揚(yáng),顧明元. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2005(04)
[10]納米多層膜的電性能及表面形貌[J]. 張發(fā)榮,薛鈺芝,張力. 真空. 2005(04)
本文編號(hào):3489900
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多層膜結(jié)構(gòu)模型
格取向的 Cu 單質(zhì)薄膜模型:(a)K-S 型,(bls of Cu films with different lattice orientation: (a 單質(zhì)薄膜初始條件的設(shè)定保持一致,在NPT 系綜下弛豫階段采用的步長(zhǎng)為 0.001態(tài)。之后在 NPT 系綜下對(duì)弛豫后的薄膜應(yīng)變率為 109/s,溫度為 10K。整個(gè)模擬、動(dòng)能、勢(shì)能以及原子坐標(biāo)。模擬結(jié)果及分析關(guān)系在材料的性能研究中具有重要作用,質(zhì)薄膜沿 x 軸拉伸過程中對(duì)應(yīng)的 - 曲線的 Cu 單質(zhì)薄膜都先進(jìn)入彈性變形階段入塑性流動(dòng)階段;K-S型Cu單質(zhì)薄膜的膜的屈服強(qiáng)度為 6.532Gpa;進(jìn)入塑性流動(dòng)
圖 3.2 Cu 單質(zhì)薄膜單軸加載下的 - 曲線,拉伸應(yīng)變率為 109/s,溫度為 10K.2 The - curves of Cu films under uniaxial loading, under tensile strain rate of 109/s, a3 Cu 單質(zhì)薄膜的微觀變形機(jī)制圖 3.3(a-d)中給出了 K-S 型 Cu 單質(zhì)薄膜在單軸加載過程中不同 下的結(jié)構(gòu),位錯(cuò)線由 DXA 命令識(shí)別。如圖 3.3(a)所示,此時(shí) Cu 單質(zhì)薄膜原有的原子排列結(jié)構(gòu)沒有位錯(cuò)缺陷產(chǎn)生,對(duì)應(yīng)圖 3.2 中黑色 - 曲線彈性。隨著 增加 Cu 單質(zhì)薄膜表面附近的原子在外力和內(nèi)部原子拉力的作用動(dòng),當(dāng) =0.060 時(shí)薄膜表面有<112>不全位錯(cuò)(識(shí)別為綠色)形核并在薄殖滑移(圖 3.3(b)),從而導(dǎo)致 Cu 單質(zhì)薄膜開始發(fā)生屈服,相對(duì)應(yīng)的色 - 曲線出現(xiàn)了峰值。繼續(xù)增加 薄膜進(jìn)入塑性變形階段,當(dāng) =0.06部有大量不同晶向的位錯(cuò)產(chǎn)生,位錯(cuò)的形核使得薄膜強(qiáng)度降低而位錯(cuò)間用又使得 Cu 單質(zhì)薄膜得到強(qiáng)化(如圖 3.3(c)),因此對(duì)應(yīng)的 - 曲線在階段是不斷上下波動(dòng)的,但整體表現(xiàn)為下降趨勢(shì),如圖 3.2 中黑色曲線不斷加載 Cu 單質(zhì)薄膜最終進(jìn)入到塑性流動(dòng)階段,當(dāng) =0.149 時(shí)薄膜內(nèi)部
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]Progress in application and preparation of silver nanowires[J]. Xiong-Zhi Xiang,Wen-Ya Gong,Ming-Sheng Kuang,Lei Wang. Rare Metals. 2016(04)
[2]Interfacial Structures Governed Plastic Deformation Behaviors in Metallic Multilayers[J]. Ming-Zhen Wei,Zhen-Hua Cao,Xiang-Kang Meng. Acta Metallurgica Sinica(English Letters). 2016(02)
[3]The mechanical behavior of nanoscale metallic multilayers:A survey[J]. Q.Zhou,J.Y.Xie,F.Wang,P.Huang,K.W.Xu,T.J.Lu. Acta Mechanica Sinica. 2015(03)
[4]金納米棒的光學(xué)性質(zhì)及其在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用[J]. 劉媚,楊培慧,蔡繼業(yè). 生物化學(xué)與生物物理進(jìn)展. 2009(11)
[5]電化學(xué)法制備組分調(diào)制納米多層膜的研究現(xiàn)狀[J]. 徐峰,呂憶農(nóng),謝燕,劉云飛. 腐蝕科學(xué)與防護(hù)技術(shù). 2008(01)
[6]電沉積金屬多層膜的研究現(xiàn)狀[J]. 張英杰,蘇玉華,范云鷹. 材料保護(hù). 2007(08)
[7]納米多層膜的制備方法及比較[J]. 楊會(huì)靜,孫立萍,劉長(zhǎng)虹. 唐山師范學(xué)院學(xué)報(bào). 2006(05)
[8]電刷鍍Cu/Ni納米多層膜鍍液的研究[J]. 譚俊,楊紅軍,郭文才. 中國(guó)表面工程. 2005(04)
[9]TiN/Si3N4納米多層膜的生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)與超硬效應(yīng)[J]. 胡曉萍,董云杉,孔明,李戈揚(yáng),顧明元. 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào). 2005(04)
[10]納米多層膜的電性能及表面形貌[J]. 張發(fā)榮,薛鈺芝,張力. 真空. 2005(04)
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