發(fā)布時(shí)間：2021-11-11 09:28

　　以張家口宣化高嶺土為原料,制備高嶺石/二甲基亞砜（dimethylsulfoxide,DMSO）插層復(fù)合物。利用X射線(xiàn)衍射（X-ray diffraction,XRD）,傅里葉紅外光譜（Fourier transform infrared spectracopy,FT-IR）,熱重-差熱分析（Thermogravimetric-differential thermal analysis,TG-DTA）對(duì)制備的復(fù)合物進(jìn)行表征。其中,XRD和FT-IR顯示二甲基亞砜分子已進(jìn)入高嶺石層間,使其層間距由0.718 nm增加至1.130 nm。TG-DTA結(jié)果表明插層復(fù)合物熱相變經(jīng)歷以下三個(gè)階段:二甲基亞砜分子脫嵌（約199℃）,脫羥基（約522℃）,高嶺石重結(jié)晶（997℃）。此外,依據(jù)表征結(jié)果推測(cè)二甲基亞砜分子在高嶺石層間存在形式,構(gòu)建了復(fù)合物體系的結(jié)構(gòu)模型,并對(duì)高嶺石/二甲基亞砜插層作用機(jī)理進(jìn)行了討論。 

【文章來(lái)源】：人工晶體學(xué)報(bào). 2017,46(01)北大核心CSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：7 頁(yè)

【文章目錄】：
1 引言
2 實(shí)驗(yàn)
    2.1 實(shí)驗(yàn)原材料
    2.2 制備方法
    2.3 實(shí)驗(yàn)設(shè)備及表征儀器
    2.4 復(fù)合體系模型構(gòu)建
3 結(jié)果與討論
    3.1 插層復(fù)合物表征
        3.1.1 XRD分析
        3.1.2 紅外光譜分析
        3.1.3 熱重-差熱分析
    3.2 高嶺石/二甲基亞砜插層復(fù)合物結(jié)構(gòu)模擬
        3.2.1 原子密度分析
        3.2.2 徑向分布函數(shù)分析
        3.2.3 均方位移分析
4 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]高嶺石-DMSO插層復(fù)合物的制備與表征[J]. 張敬陽(yáng),葉玲,張昕.  華僑大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2011(03)
[2]高嶺土熱分解動(dòng)力學(xué)[J]. 張愛(ài)華,何明中,秦芳芳,嚴(yán)慧.  硅酸鹽學(xué)報(bào). 2009(10)
[3]工業(yè)微波在制備高嶺石-二甲基亞砜插層復(fù)合物中的應(yīng)用[J]. 李志杰,郭方方,林樅,徐政,彭虎.  材料導(dǎo)報(bào). 2007(S2)
[4]高嶺土－二甲亞砜夾層復(fù)合物的形成機(jī)理[J]. 李偉東,黃建國(guó),許承晃.  華僑大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 1994(01)



本文編號(hào)：3488616