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基于氧化石墨烯制備的納米碳化硼及其性能研究

發(fā)布時(shí)間:2021-09-09 15:20
  隨著核能和核技術(shù)的飛速發(fā)展,用于輻射防護(hù)的高性能中子吸收材料的研究已成為核技術(shù)領(lǐng)域的重要課題。碳化硼(B4C)因具有高的中子吸收截面、中子俘獲后產(chǎn)生的二次輻射能低、易于屏蔽等優(yōu)越的性能,而成為重要的中子吸收材料。但碳化硼的燒結(jié)致密性差和斷裂韌性差,將碳化硼納米化與使用增韌劑相結(jié)合是目前有效的改善方法。氧化石墨烯(GO)具有層狀結(jié)構(gòu),較大的比表面積和豐富的表面官能團(tuán)可以為反應(yīng)提供足夠的活性位點(diǎn)并降低反應(yīng)溫度,且氧化石墨烯在陶瓷基體中良好的分散性可以提高陶瓷材料的力學(xué)性能。GO既可以作為碳源制備納米B4C,提高材料的中子屏蔽性能,又可以在納米B4C粉末中起到增韌的作用,改善碳化硼的燒結(jié)致密性與斷裂韌性。因此,本論文以氧化石墨烯為碳源,分別與不同硼源反應(yīng)制備納米碳化硼,并對(duì)其相關(guān)性能進(jìn)行了研究。主要研究?jī)?nèi)容如下:(1)以GO-B2O3體系為研究對(duì)象,通過碳熱還原法制備納米B4C。研究了碳硼摩爾比(C/B2O3=1.25... 

【文章來源】:西南科技大學(xué)四川省

【文章頁(yè)數(shù)】:65 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】:碩士

【部分圖文】:

基于氧化石墨烯制備的納米碳化硼及其性能研究


碳化硼的(a)菱形晶體結(jié)構(gòu)和(b)晶體結(jié)構(gòu)圖

相圖,相圖


西南科技大學(xué)碩士學(xué)位論文6圖1-2B-C相圖Fig.1-2Boron-Carbonphasediagram1.2.2碳化硼的性能碳化硼中碳和硼以共價(jià)鍵方式結(jié)合,共價(jià)鍵分?jǐn)?shù)高達(dá)90%以上,這種獨(dú)特的結(jié)合方式賦予了碳化硼許多優(yōu)異的物理化學(xué)性能,使得它在拋光、高溫工程陶瓷、耐腐蝕器件、輕型裝甲、輻射防護(hù)材料等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。(1)物理和力學(xué)性能碳化硼具有極高的硬度,其維氏硬度30~37GPa,僅次于金剛石和立方氮化硼,可以將其用做拋光和水射線切割的磨料粉末。此外,由于B4C的硬度會(huì)隨著溫度的增加而增強(qiáng),使得其可以作為高溫耐磨材料使用[33]。碳化硼的理論密度低于其他陶瓷材料,僅為2.52g/cm3,可用于輕型裝甲的制造。碳化硼的熔點(diǎn)很高(2450K)可用于高溫工程陶瓷領(lǐng)域。此外,碳化硼還具有高彈性模量、低膨脹系數(shù)和優(yōu)異的熱電性等特點(diǎn)。碳化硼的最大缺點(diǎn)是斷裂韌性差,如何改善碳化硼的斷裂韌性引起研究學(xué)者的廣泛關(guān)注。(2)化學(xué)性能碳化硼是一種非常穩(wěn)定的化合物,在常溫下不會(huì)被氧氣氧化,不和鹵族氣體反應(yīng),不會(huì)和酸堿溶液反應(yīng),也不受到熱HNO3、HF的腐蝕。僅在HF-H2SO4和HF-H2SO4-HNO3的混酸溶液中有輕微分解。在較高溫度下,碳化硼表面會(huì)發(fā)生氧化形成氧化硼薄膜,進(jìn)而終止氧化反應(yīng)的繼續(xù)進(jìn)行。因此,碳化硼可以在金屬和碳化物中起到防氧化的作用。(3)中子吸收性能碳化硼具有優(yōu)越的熱中子吸收性能,這得益于碳化硼中的10B。10B的熱中子吸收截面高達(dá)3837Bam,吸收熱中子后產(chǎn)生能量?jī)H為0.478MeV的γ輻射,很容易就可以將其屏蔽[6]。而且碳化硼的價(jià)格低廉,使用之后產(chǎn)生的廢料處理方便。因此,B4C可以廣泛應(yīng)用于輻射屏蔽領(lǐng)域。1.2.3碳化硼的制備方法國(guó)內(nèi)外已經(jīng)有多種碳化硼粉末的制備方法,這些方法中有一些適用于碳化硼的商

SEM圖,倍率,網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),納米


西南科技大學(xué)碩士學(xué)位論文8圖1-3不同放大倍率下的三維納米網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)碳化硼SEM圖Fig.1-3SEMimagesofthree-dimensionalnano-networkboroncarbideatdifferentmagnifications(2)自蔓延高溫合成法自蔓延高溫合成法(Self–propagationHigh–temperatureSynthesis,簡(jiǎn)稱SHS)是將氧化硼粉體、碳粉和Mg粉或Al粉均勻混合后壓成胚體,在Ar氣氛圍中點(diǎn)燃反應(yīng),最后將獲得的粉末樣品進(jìn)行酸洗即可得到B4C粉末。SHS合成B4C的過程中大多以Mg粉作為還原金屬,因此又將其稱為鎂熱還原法。具體的反應(yīng)方程式如下:2B2O3+5Mg+C=B4C+5MgO+CO(1-5)該反應(yīng)按照以下兩個(gè)步驟進(jìn)行:2B2O3+6Mg=4B+6MgO(1-6)4B+C=B4C(1-7)SHS具有傳統(tǒng)制備方法無(wú)可比擬的優(yōu)點(diǎn),例如反應(yīng)溫度低、能耗孝操作簡(jiǎn)單、反應(yīng)迅速和獲得的B4C粉末粒徑小等。但反應(yīng)過程中產(chǎn)生的副產(chǎn)物MgO會(huì)殘留在最終產(chǎn)物中,即使用熱酸反復(fù)浸出也極難徹底去除[39]。Mohammad等[40]以石墨粉、鎂粉和B2O3為原料通過60h的球磨和自蔓延合成法合成了平均粒徑為10-80nm的B4C粉末。Berchmans等[41]使用Na2B3O7和石焦油作原料,加入適量的Ga金屬作還原劑,在1000oC下反應(yīng)5h得到晶粒尺寸為21~23nm的B4C粉體。張華宇等[42]通過Mg-B2O3-C體系合成了MgO-B4C,研究了壓力對(duì)整個(gè)體系微觀組織的影響并分析了反應(yīng)原理。Atasoy等[43]通過Al-H3BO3-C體系,在1300oC下反應(yīng)5h制備了純度較高的B4C粉體。(3)激光誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積法激光誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積法(LICVD)是以激光為加熱熱源,誘發(fā)氣體分子發(fā)生反應(yīng)合成納米粉末的技術(shù)。LICVD制備B4C的過程為,用強(qiáng)激光輻射含有硼元素和碳元素的混合氣體(B2H6、BCl3、CHCl3等),隨著反應(yīng)溫度急劇上升,混合氣體中的B元素和C元素發(fā)生反應(yīng)生成納

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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碩士論文
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[5]艦船核動(dòng)力裝置輻射防護(hù)研究[D]. 王琳.哈爾濱工程大學(xué) 2006



本文編號(hào):3392327

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