NiO納米片及其復(fù)合材料的制備、表征與相關(guān)性能研究
發(fā)布時(shí)間:2021-08-28 04:21
對(duì)于3d過渡族金屬氧化物材料而言,其過渡族金屬離子特殊的3d電子結(jié)構(gòu)而產(chǎn)生的電子間強(qiáng)關(guān)聯(lián)特性,使其具有特異的光電性能,對(duì)該類材料的研究和應(yīng)用一直以來是物理學(xué)和光學(xué)等學(xué)科的研究熱點(diǎn)。NiO作為一種寬帶隙半導(dǎo)體材料且Ni2+離子具有3d電子結(jié)構(gòu),其3d電子間有強(qiáng)關(guān)聯(lián)特性,室溫下其禁帶寬度為3.6 eV-4.0eV,在光催化、磁學(xué)和光學(xué)等方面有重要應(yīng)用,探索NiO中光子與電子相互作用過程,對(duì)于揭示NiO在強(qiáng)光激發(fā)下不同電子躍遷的動(dòng)力學(xué)過程和拓展其應(yīng)用范圍有重要的意義。同時(shí),由于NiO本征受主缺陷的存在,而呈現(xiàn)p型導(dǎo)電特性。根據(jù)納米材料表面異質(zhì)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)原則,構(gòu)建p-n異質(zhì)結(jié)復(fù)合材料以提高本體材料的光電化學(xué)性能也是一個(gè)重要的研究課題。本論文以NiO納米片為研究對(duì)象,重點(diǎn)探索其電子躍遷的動(dòng)力學(xué)過程并發(fā)展其激光器件,并以Ti02構(gòu)建p-n異質(zhì)結(jié)復(fù)合材料提高了其光生載流子分離且探索了光催化方面的應(yīng)用。首先,利用水熱法成功制備了 NiO納米片,對(duì)其結(jié)構(gòu)和性能進(jìn)行了詳細(xì)表征分析,NiO納米片具有寬波段光學(xué)吸收特性,包括電子帶間躍遷過程引起的紫外吸收、電子帶內(nèi)躍遷過程引起的可見波段吸收和近紅外波段吸收,并...
【文章來源】:山東大學(xué)山東省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:153 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1?NiO的晶體結(jié)構(gòu)示意圖(黒色圓點(diǎn)為Ni原子,白色圓點(diǎn)為0原子)??[71]
??具有密堆積面心立方NaCl結(jié)構(gòu),即巖鹽結(jié)構(gòu),其晶體結(jié)構(gòu)如圖1.1所示[71]。在??NiO的晶體結(jié)構(gòu)中,02-以最緊密立方形式排列,而Ni2+具有與02_相同的排列方??式,填充在02_構(gòu)建的八面體空隙中,Ni2+和02_的配位數(shù)均為6。另外,NiO的??晶格常數(shù)為a=b=c=0.418?nm,單晶NiO的密度為6.62?g?cm-3?[72]。同其他二元??過渡金屬氧化物制備一樣,很難制備出完全符合化學(xué)計(jì)量比的NiO材料,大多??數(shù)情況下會(huì)有一些缺陷和雜質(zhì),歸結(jié)起來主要是以NiO和Ni2〇3的混合物質(zhì)形式??存在,其中NiO的立方晶相占主導(dǎo)作用,在對(duì)材料的晶相表征中一般很難檢測(cè)??到其他物質(zhì)的晶相,主要是由于其他物質(zhì)的含量相對(duì)較少而造成的。Ni203的晶??體結(jié)構(gòu)屬于六角晶系
強(qiáng)烈的影響[80,81];冢危椋显谖锢韺W(xué)上的大量研宄表明,由于Ni2+3d電子強(qiáng)??的電子關(guān)聯(lián)特性和窄的帶隙,NiO中Ni2+3d電子能夠發(fā)生自旋軌道劈裂,可以??引起劈裂能級(jí)間的電子躍遷過程,如圖1.4所示[82]。從Ni2+3d8電子躍遷的能??級(jí)圖可知,這種電子躍遷可以在可見光區(qū)和近紅外光區(qū)能夠引起十分弱的吸收??[83],即基態(tài)?3A2g(F)到激發(fā)態(tài)1Eg(D)?(13400?cnT1)和?3T2g(F)?(8600?cnT1)的吸收,??這使得對(duì)NiO中Ni2+3d電子軌道劈裂能級(jí)間電子躍遷引起的光學(xué)吸收性能的研??宂具有極其重要的科學(xué)意義[84]。??r5?%,??£4000?-?——??(lG)?、?I??—?J—\r?34500??20000?-一|、??16000?-?(fP。?、、£]?????IZOQO??!?8000?-?、、?24500??i?—?\?^4?1?JIU.??I?4000-?Zr.sT— ̄ ̄??UJ?,?M?I3-W0?ts??t?了丨卜??4000?-?\?I?28300??、、8600??8000?-?\、?X??12000?-?r2??1?-^1??圖1.4Ni2+3d8電子躍遷的能級(jí)圖t82]。??§?1.3.3氣敏性能??NiO作為一種|)型半導(dǎo)體材料,具有良好的氣敏性能[85]。相比于n型半導(dǎo)??體材料,p型半導(dǎo)體材料的特點(diǎn)是隨著被檢測(cè)氣體濃度的增加,氣敏材料的電阻??值增大。待測(cè)氣體與半導(dǎo)體氣敏材料相互作用時(shí),一方面在高溫條件下,半導(dǎo)體??材料都具有催化作用
本文編號(hào):3367782
【文章來源】:山東大學(xué)山東省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:153 頁
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【部分圖文】:
圖1.1?NiO的晶體結(jié)構(gòu)示意圖(黒色圓點(diǎn)為Ni原子,白色圓點(diǎn)為0原子)??[71]
??具有密堆積面心立方NaCl結(jié)構(gòu),即巖鹽結(jié)構(gòu),其晶體結(jié)構(gòu)如圖1.1所示[71]。在??NiO的晶體結(jié)構(gòu)中,02-以最緊密立方形式排列,而Ni2+具有與02_相同的排列方??式,填充在02_構(gòu)建的八面體空隙中,Ni2+和02_的配位數(shù)均為6。另外,NiO的??晶格常數(shù)為a=b=c=0.418?nm,單晶NiO的密度為6.62?g?cm-3?[72]。同其他二元??過渡金屬氧化物制備一樣,很難制備出完全符合化學(xué)計(jì)量比的NiO材料,大多??數(shù)情況下會(huì)有一些缺陷和雜質(zhì),歸結(jié)起來主要是以NiO和Ni2〇3的混合物質(zhì)形式??存在,其中NiO的立方晶相占主導(dǎo)作用,在對(duì)材料的晶相表征中一般很難檢測(cè)??到其他物質(zhì)的晶相,主要是由于其他物質(zhì)的含量相對(duì)較少而造成的。Ni203的晶??體結(jié)構(gòu)屬于六角晶系
強(qiáng)烈的影響[80,81];冢危椋显谖锢韺W(xué)上的大量研宄表明,由于Ni2+3d電子強(qiáng)??的電子關(guān)聯(lián)特性和窄的帶隙,NiO中Ni2+3d電子能夠發(fā)生自旋軌道劈裂,可以??引起劈裂能級(jí)間的電子躍遷過程,如圖1.4所示[82]。從Ni2+3d8電子躍遷的能??級(jí)圖可知,這種電子躍遷可以在可見光區(qū)和近紅外光區(qū)能夠引起十分弱的吸收??[83],即基態(tài)?3A2g(F)到激發(fā)態(tài)1Eg(D)?(13400?cnT1)和?3T2g(F)?(8600?cnT1)的吸收,??這使得對(duì)NiO中Ni2+3d電子軌道劈裂能級(jí)間電子躍遷引起的光學(xué)吸收性能的研??宂具有極其重要的科學(xué)意義[84]。??r5?%,??£4000?-?——??(lG)?、?I??—?J—\r?34500??20000?-一|、??16000?-?(fP。?、、£]?????IZOQO??!?8000?-?、、?24500??i?—?\?^4?1?JIU.??I?4000-?Zr.sT— ̄ ̄??UJ?,?M?I3-W0?ts??t?了丨卜??4000?-?\?I?28300??、、8600??8000?-?\、?X??12000?-?r2??1?-^1??圖1.4Ni2+3d8電子躍遷的能級(jí)圖t82]。??§?1.3.3氣敏性能??NiO作為一種|)型半導(dǎo)體材料,具有良好的氣敏性能[85]。相比于n型半導(dǎo)??體材料,p型半導(dǎo)體材料的特點(diǎn)是隨著被檢測(cè)氣體濃度的增加,氣敏材料的電阻??值增大。待測(cè)氣體與半導(dǎo)體氣敏材料相互作用時(shí),一方面在高溫條件下,半導(dǎo)體??材料都具有催化作用
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