原位自生TiB₂/A201復(fù)合材料是一種新型輕質(zhì)高強(qiáng)的鑄造鋁基復(fù)合材料,但是該材料耐蝕性較差,表面處理困難。當(dāng)材料用于高速水流工況下時(shí),復(fù)合材料需要較高的耐空泡腐蝕和耐Cl^￣侵蝕性能,這對(duì)該材料的表面防護(hù)是一個(gè)嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。微弧氧化工藝制備的氧化膜層能與基底形成良好的冶金結(jié)合,且高硬度較高,從而具有耐空泡腐蝕的潛力。本課題以制備高品質(zhì)耐腐蝕的微弧氧化膜層為目標(biāo),優(yōu)化制備工藝,并研究氧化膜層的耐腐蝕性能,為T(mén)iB₂/A201復(fù)合材料的實(shí)際應(yīng)用提供腐蝕防護(hù)方面的指導(dǎo)。本文以原位自生TiB₂/A201復(fù)合材料為研究對(duì)象,采用微弧氧化方法進(jìn)行表面處理,優(yōu)選了適合復(fù)合材料的微弧氧化工藝,討論了復(fù)合材料的微弧氧化行為及氧化膜層在微弧氧化過(guò)程中微觀組織演化機(jī)理,探究了微弧氧化膜層的空泡腐蝕行為和耐Cl^￣侵蝕能力。本文的主要研究結(jié)果如下:（1）三種電解液體系（硅酸鈉、磷酸鈉和鋁酸鈉）均可在TiB₂/A201復(fù)合材料表面制備微弧氧化膜層。其中,在鋁酸鈉電解液體系中制備的膜層孔... 

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鋁銅合金晶界無(wú)析出帶[14]

上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文nelling ionisation）破壞，此時(shí)在氧化膜表面會(huì)有大量小火花迅速移動(dòng)6時(shí)，更緩慢、更大的弧光放電現(xiàn)象出現(xiàn)；在 U6~U7階段，由于反向?qū)由系木奂�，熱電離（Thermal ionisation）會(huì)被部分阻斷。由于微弧漸的熔合在一起，并且與電解質(zhì)中含有的元素進(jìn)行合金化。當(dāng)電壓弧放電會(huì)穿透整個(gè)膜層，接觸到基底表面（因此反相電流的阻斷效了），進(jìn)入自持弧光放電區(qū)，同時(shí)在膜層上產(chǎn)生熱裂紋（Thermal cr現(xiàn)象。

上海交通大學(xué)碩士學(xué)位論文底部的氣泡會(huì)被擊穿，產(chǎn)生等離子體，其中的電子注入氧化膜后會(huì)發(fā)生效應(yīng)，從而引起氧化膜的擊穿，通道中的等離子體在電場(chǎng)的作用下發(fā)生圖 1- 3d 所示）。同時(shí)，通道中的氧等離子體以及原子氧等具有反應(yīng)活性與基底的熔融物和蒸發(fā)的金屬原子以及其它粒子發(fā)生反應(yīng)，生成金屬氧體。待放電結(jié)束后，金屬氧化物熔體冷卻凝固，成為微弧氧化膜層的一部氧化膜層迅速生長(zhǎng)增厚。

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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博士論文
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碩士論文
[1]抗空蝕彈性體涂層的研制及性能研究[D]. 陶業(yè)立.機(jī)械科學(xué)研究總院 2015
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