為提高聚四氟乙烯（PTFE）膜的粘接性能,研究了氧氣等離子體處理對PTFE膜剝離強度和水接觸角的影響,并比較了氧氣、氮氣和氬氣等離子體處理PTFE膜粘接強度的差異,借助X射線光電子能譜儀、掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡測試了等離子體處理前后PTFE膜表面元素、形態(tài)和粗糙度的變化。結(jié)果表明:氮氣等離子體處理的PTFE膜,其剝離強度較未處理的PTFE膜提高了539.8%,水接觸角提高了11.4°,達120.4°;當放電量低于36 kJ時,經(jīng)氧氣等離子體處理的PTFE膜剝離強度隨放電量的增加呈指數(shù)增加,繼續(xù)增加放電量時,PTFE膜表面形成了凹凸溝槽的荷葉形貌,該荷葉形貌決定了膜粘結(jié)性和疏水性的強弱。 

【文章來源】：紡織學(xué)報. 2020,41(08)北大核心EICSCD

【文章頁數(shù)】：7 頁

【部分圖文】：

氮氣等離子體處理PTFE膜的C1s分峰圖

圖4、5分別為未處理PTFE膜和高放電量(36.0 k J)下3種氣體等離子體處理PTFE膜的SEM和AFM照片�？芍入x子體處理膜(1#、2#、3#)表面有明顯的凹凸溝槽結(jié)構(gòu)，即無論是氧氣、氮氣還是氬氣，高放電量的等離子體處理均能產(chǎn)生凹凸溝槽結(jié)構(gòu)，且這種平行的凹槽結(jié)構(gòu)類似于荷葉表面形貌，導(dǎo)致PTFE膜表面呈疏水性。等離子體處理過程中，高能電子轟擊產(chǎn)生的自由基和離子主要影響膜表面化學(xué)成分，這在Vandencasteele等[17]的研究中得到驗證。圖5 不同氣體等離子體處理PTFE膜的AFM照片

不同氣體等離子體處理PTFE膜的光電子能譜圖如圖1所示，其中氮氣等離子體處理2#試樣的C1s分峰圖如圖2所示。圖2 氮氣等離子體處理PTFE膜的C1s分峰圖

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3316271