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磁控濺射-熔覆法制備銅/鉬接頭的組織與性能研究

發(fā)布時間:2021-06-26 03:16
  采用磁控濺射-熔覆法制備了銅/鉬接頭,并通過室溫靜態(tài)拉伸試驗對其結(jié)合性能進(jìn)行了測試。采用光學(xué)顯微鏡觀察了Cu/Mo結(jié)合界面附近的顯微組織,并利用掃描電鏡(配X射線能譜儀)分析了斷口形貌及Cu/Mo界面附近的Cu,Mo,Ni和Cr合金元素分布情況。結(jié)果表明,添加適量的Ni、Cr等合金元素可使結(jié)合界面形成4~5μm的擴(kuò)散層,從而有利于銅和鉬的連接。在5.0×10-3Pa真空度下,1200℃熔覆并保溫60 min,然后緩慢冷卻,制得接頭的抗拉強度為156 MPa。鉬和銅均發(fā)生了再結(jié)晶,其中鉬的平均晶粒尺寸約為20μm,而銅的晶粒尺寸達(dá)數(shù)百微米。室溫拉伸條件下,接頭由鉬側(cè)發(fā)生脆性斷裂,斷口特征由心部到邊緣依次為解理斷裂、混合(晶間+韌窩)斷裂、剪切斷裂。 

【文章來源】:熱加工工藝. 2020,49(20)北大核心

【文章頁數(shù)】:4 頁

【部分圖文】:

磁控濺射-熔覆法制備銅/鉬接頭的組織與性能研究


拉伸試樣及其應(yīng)力-應(yīng)變曲線

界面圖,原材料,微觀,界面


原材料Mo及Cu/Mo界面的微觀組織如圖2所示。由圖可見,原材料Mo晶粒呈條帶狀沿主變形方向分布,條帶寬度在10~30μm范圍內(nèi)變動,長度變化較大,屬典型的冷變形纖維組織。晶粒內(nèi)部存在很多相互之間近似平行,并且與主變形呈45°方向的深色部分,如圖2(a)中箭頭a所指,即晶內(nèi)亞結(jié)構(gòu)。也有的亞結(jié)構(gòu)呈破碎狀分布于晶內(nèi),如箭頭b所指。銅/鉬接頭結(jié)合界面附近的顯微組織如圖2(b)所示。由圖可見,二者界面結(jié)合良好,不存在裂縫、孔洞、第三相等缺陷。鉬和銅均發(fā)生了再結(jié)晶,其中鉬的平均晶粒尺寸約為20μm,而銅的晶粒尺寸特別大,約為數(shù)百微米。銅的晶界趨于平直化,位向差導(dǎo)致部分晶粒顏色有所差異,分別見圖2(b)中箭頭c、d所指。

斷口形貌,元素,擴(kuò)散層,界面


垂直于銅/鉬界面的元素線掃描結(jié)果表明,界面附近形成了4~5μm的擴(kuò)散層。從鉬側(cè)到銅側(cè),金屬鉬的含量急劇降低,而銅的含量增加幅度相對較緩,表明擴(kuò)散層主要位于銅側(cè)(圖3)。另外,在界面附近并未發(fā)現(xiàn)含量顯著升高的Cr、Ni區(qū)域,可見二者含量均很低,且分布均勻。2.4 斷口形貌觀察

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號:3250520

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