高嶺石表面與層間具有較高的活性和良好的規(guī)范性,因而適合對其進(jìn)行化學(xué)修飾,在催化劑負(fù)載方面值得深入研究。本文以甲氧基嫁接的高嶺石為前軀體,采用置換插層法制備出高嶺石/三聚氰胺插層復(fù)合物,進(jìn)一步在550℃煅燒獲得g-C₃N₄/高嶺石復(fù)合光催化劑。利用X射線衍射、傅里葉紅外和熱重-差熱分析等手段對復(fù)合光催化材料進(jìn)行表征,并對其光催化性能進(jìn)行研究。結(jié)果表明,當(dāng)高嶺石與光催化劑前驅(qū)體三聚氰胺質(zhì)量比為1∶1和1∶2時,較難縮聚得到g-C₃N₄;然而,當(dāng)高嶺石與三聚氰胺質(zhì)量比為1∶3、1∶4、1∶5時,可獲得不同g-C₃N₄占比的復(fù)合材料,其整體分散狀況因高嶺石的加入而有效改善,這表明高嶺石的加入能有效避免g-C₃N₄的團(tuán)聚。所制備的高嶺石負(fù)載石墨相氮化碳光催化材料具有較好的光學(xué)性能,在探索經(jīng)濟(jì)、高效、綠色礦物基復(fù)合光催化劑方面研究具有重要意義。 

【文章來源】：人工晶體學(xué)報. 2017,46(07)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：6 頁

【文章目錄】：
1 引言
2 實驗
    2.1 實驗原料
    2.2 高嶺石/三聚氰胺插層復(fù)合材料制備
    2.3 g-C3N4/高嶺石復(fù)合光催化材料制備
    2.4 材料表征
3 結(jié)果與討論
    3.1 高嶺石/三聚氰胺插層復(fù)合材料
    3.2 g-C3N4/高嶺石復(fù)合光催化材料
4 結(jié)論



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