為研制真空紫外與極紫外波段Al基薄膜光學(xué)元件,詳細(xì)研究了Al基薄膜的應(yīng)力特性及其優(yōu)化方法。利用應(yīng)力實(shí)時(shí)測(cè)量裝置對(duì)共濺射技術(shù)制備的5種不同Si摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)（0、8.97%、16.49%、28.46%、45.73%）的Al-Si復(fù)合薄膜進(jìn)行應(yīng)力測(cè)試,并采用X射線衍射法表征薄膜的結(jié)晶狀態(tài)。結(jié)果表明:Al薄膜中的應(yīng)力表現(xiàn)為壓應(yīng)力,隨著Si在Al中摻雜量的增加,Al中的壓應(yīng)力減小,并且Al的結(jié)晶度降低,Al（111）晶向的晶粒尺寸也減小,Al的結(jié)晶被抑制;當(dāng)Si的摻雜質(zhì)量分?jǐn)?shù)從18.63%增大到31.57%時(shí),Al中的壓應(yīng)力轉(zhuǎn)變?yōu)閺垜?yīng)力,且張應(yīng)力隨Si摻雜量的增加而進(jìn)一步增大。本研究為制備Al基濾片、單層膜和多層膜元件提供了技術(shù)支撐,在極紫外光刻、同步輻射和天文觀測(cè)領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價(jià)值。 

【文章來(lái)源】：光學(xué)學(xué)報(bào). 2020,40(14)北大核心EICSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：6 頁(yè)

【文章目錄】：
1 引 言
2 實(shí) 驗(yàn)
    2.1 薄膜制備工藝
    2.2 薄膜應(yīng)力的實(shí)時(shí)測(cè)量
    2.3 薄膜的X射線反射與X射線衍射測(cè)量
3 分析與討論
    3.1 Al-Si復(fù)合薄膜的厚度
    3.2 Al-Si復(fù)合薄膜的應(yīng)力
    3.3 Al-Si復(fù)合薄膜的微結(jié)構(gòu)分析
4 結(jié) 論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]低角度效應(yīng)虹膜識(shí)別濾光片的研制[J]. 劉冬梅,岳鵬飛,付秀華,張靜,曹洪玉,李爽.  光學(xué)學(xué)報(bào). 2019(11)
[2]離子束濺射制備N(xiāo)b2O5、Ta2O5和SiO2薄膜的光學(xué)、力學(xué)特性和微結(jié)構(gòu)[J]. 袁文佳,沈偉東,鄭曉雯,楊陳楹,章岳光,方波,沐雯,陳超楠,劉旭.  光學(xué)學(xué)報(bào). 2017(12)
[3]多層薄膜沉積的應(yīng)力仿真分析[J]. 李長(zhǎng)安,楊明冬,全本慶,關(guān)衛(wèi)林.  激光與光電子學(xué)進(jìn)展. 2018(04)
[4]一種X射線成像型平響應(yīng)低通濾波技術(shù)[J]. 袁錚,曹柱榮,朱效立,鄧博,李晉,楊志文,洪才浩,劉慎業(yè),楊家敏,趙屹東.  光學(xué)學(xué)報(bào). 2016(05)
[5]北京同步輻射裝置4B7B軟X射線標(biāo)定束線的性能研究及應(yīng)用[J]. 易榮清,趙屹東,王秋平,鄭雷,楊家敏,何小安,李朝光,江少恩,丁永坤,崔明啟.  光學(xué)學(xué)報(bào). 2014(10)
[6]磁控濺射制備的W,WSi2,Si單層膜和W/Si,WSi2/Si多層膜應(yīng)力[J]. 黃秋實(shí),李浩川,朱京濤,王曉強(qiáng),蔣勵(lì),王占山,唐永建.  強(qiáng)激光與粒子束. 2011(06)
[7]5～40nm波段高次諧波的定量研究[J]. 周洪軍,王冠軍,鄭津津,霍同林,邱克強(qiáng).  光學(xué)學(xué)報(bào). 2010(09)
[8]利用掠入射X射線技術(shù)表征高分子薄膜[J]. 張吉東,莫志深.  大學(xué)化學(xué). 2009(02)
[9]自支撐薄膜制備的研究進(jìn)展[J]. 高鳳菊,鄭瑞廷,程國(guó)安.  材料導(dǎo)報(bào). 2007(06)
[10]薄膜應(yīng)力研究[J]. 邵淑英,范正修,范瑞瑛,邵建達(dá).  激光與光電子學(xué)進(jìn)展. 2005(01)



本文編號(hào)：3190730