在摻氟二氧化錫（FTO）薄膜基底表面用激光刻蝕凹槽后以磁控濺射法復(fù)合金屬Ag層,然后進(jìn)行爐內(nèi)退火處理,制得Ag復(fù)合激光刻蝕FTO薄膜。研究了Ag層厚度對樣品表面形貌、晶體結(jié)構(gòu)及光電性能的影響。結(jié)果表明,當(dāng)Ag層厚度為5 nm時(shí),大部分銀納米顆粒均勻密集地分布在凹槽內(nèi)表面而不是凹槽外表面。復(fù)合銀納米顆粒及爐內(nèi)退火有效地提升了FTO薄膜的光電性能。Ag層厚度為5 nm的薄膜在400～800 nm波段的透光率為78.40%,方塊電阻為8.21Ω,品質(zhì)因子達(dá)到1.069×10^-2 Ω^-1。 

【文章來源】：電鍍與涂飾. 2020,39(12)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：5 頁

【文章目錄】：
1 實(shí)驗(yàn)
    1.1 樣品的制備
    1.2 形貌與結(jié)構(gòu)的表征
    1.3 光電性能的測試
2 結(jié)果與討論
    2.1 表面形貌
    2.2 晶體結(jié)構(gòu)
    2.3 光學(xué)性能
    2.4 電學(xué)性能
    2.5 光電性能
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]聚乙二醇對FTO基底上電沉積-熱氧化制備的ZnO薄膜光電化學(xué)性能的影響[J]. 謝萌陽,肖仕清,郝麗華,馬榮偉,牛振江.  電鍍與涂飾. 2019(18)
[2]壓電霧化噴涂法制備納米銀線透明導(dǎo)電薄膜[J]. 儲(chǔ)成智,魏頂,王勇,徐偉,汝長海.  電鍍與涂飾. 2017(20)
[3]電化學(xué)Fe摻雜增強(qiáng)FTO薄膜的可見光光電化學(xué)性能[J]. 肖仕清,郝麗華,謝萌陽,馬榮偉,牛振江.  電鍍與涂飾. 2017(09)
[4]激光輻照對熱退火金屬/摻氟二氧化錫透明導(dǎo)電薄膜光電性能的影響[J]. 黃立靜,任乃飛,李保家,周明.  物理學(xué)報(bào). 2015(03)



本文編號：3163873