利用化學(xué)氣相沉積技術(shù),用氫氣還原氯化亞鐵,在碳化硅陶瓷表面制備鐵涂層,確定適宜的工藝參數(shù);研究鐵涂層對碳化硅陶瓷/高鉻鑄鐵復(fù)合材料界面結(jié)合的影響。利用X射線衍射儀、掃描電鏡等對樣品的顯微組織、物相和表面形貌進(jìn)行分析。研究結(jié)果表明:采用化學(xué)氣相沉積法在碳化硅陶瓷表面制備鐵涂層適宜的工藝參數(shù)為:沉積溫度650℃,保溫時間30 min,此時獲得的鐵涂層均勻致密,純度較高,且未與碳化硅反應(yīng)。碳化硅陶瓷/鐵復(fù)合材料界面結(jié)合良好,無明顯的孔洞和裂縫等缺陷。 

【文章來源】：熱加工工藝. 2017,46(06)北大核心CSCD

【文章頁數(shù)】：4 頁

【文章目錄】：
1 實驗
    1.1 碳化硅泡沫陶瓷的制備
    1.2 CVD法在陶瓷表面沉積鐵涂層
    1.3 Si C/鑄鐵復(fù)合材料的制備
    1.4 性能表征
2 結(jié)果與討論
    2.1 表面涂層
    2.2 復(fù)合材料界面
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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碩士論文
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本文編號：3103018