金屬等離子體納米結(jié)構(gòu)憑借其表面等離子體出色的將光局域于金屬-介電材料界面的能力受到了研究工作者們的廣泛關(guān)注,在傳感器、顯示器件、光電器件等領域都具備著可觀的應用潛力。由于金屬納米結(jié)構(gòu)表面的增強電場對于介質(zhì)環(huán)境的折射率十分敏感,所以可以將其應用于折射率傳感中。材料、形狀迥異的金屬納米結(jié)構(gòu)表面注定其所發(fā)揮出的傳感性能的天差地別,通過合理、有目的性的結(jié)構(gòu)設計可以提高結(jié)構(gòu)的最終性能。貴金屬具有反應惰性、高表面共振強度、易于進行表面修飾且生物相容等優(yōu)點,是應用于等離子體傳感的絕佳候選材料。而在結(jié)構(gòu)設計上以往的報道中指出三維等離子體金屬結(jié)構(gòu)往往較二維結(jié)構(gòu)具有更優(yōu)越的傳感性能,所以我們將從三維金屬納米結(jié)構(gòu)表面出發(fā)進行合理設計。目前大多數(shù)關(guān)于金屬納米結(jié)構(gòu)表面構(gòu)筑的文獻都是基于聚焦離子束刻蝕和電子束刻蝕這兩種方法,因為由此得到的結(jié)構(gòu)精細可控且靈活性較高,但同時也存在著設備要求高、產(chǎn)出效率低、三維結(jié)構(gòu)成形難等諸多弊病。為此如何通過高效低耗的構(gòu)筑方法得到目標結(jié)構(gòu)就顯得至關(guān)重要了。膠體刻蝕以膠體晶體的自組裝有序結(jié)構(gòu)為模板,結(jié)合后續(xù)模板處理及圖形轉(zhuǎn)移可以設計得到大面積有序且形狀參數(shù)高度可調(diào)的二維及三維金屬納米結(jié)... 

【文章來源】：吉林大學吉林省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

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【學位級別】：博士

【部分圖文】：

b為具有不同H1的三維銀納米環(huán)陣列當浸入逐漸增大的折射率溶劑中時的光譜谷位移對于折射率的線性關(guān)系圖，右下角為谷位移對于溶劑折射率的線

f所示，從中提煉的RIS和線性相關(guān)系數(shù)列舉如表2.3所示


本文編號：3086624