PET基ITO/LaB 6 /ITO透明導(dǎo)電薄膜電極的制備及光電性能的研究
發(fā)布時間:2021-03-12 00:46
LaB6納米材料在紫外和近紅外波段具有特定的選擇性吸收作用,在光學和隔熱材料領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用前景,這一特殊性能使其成為時下研究的熱點。ITO是目前已知的性能最好的隔熱透明材料,在太陽能電池和柔性透明導(dǎo)電薄膜領(lǐng)域,具有極其廣泛的應(yīng)用。本文結(jié)合兩者優(yōu)勢,通過磁控濺射法制備了LaB6與ITO復(fù)合薄膜,對LaB6在柔性透明導(dǎo)電薄膜領(lǐng)域的應(yīng)用進行了初步探索。研究了等離子體預(yù)處理對基底的影響,探索了薄膜的最佳制備時間,并對其組織結(jié)構(gòu)、光學性能以及電學性能的相關(guān)性進行了深入分析。等離子體預(yù)處理結(jié)果表明,PET為最佳的柔性透明基底,當放電電壓為70V,放電電流為0.15A,束流電壓為0.9KV,束流電流為12mA,加速電壓為120V時,隨著預(yù)處理時間的延長,光學性能、潤濕性、表面粗糙度以及表面高度等性能均為先減小后增大,當預(yù)處理時間為60s時,PET基底具有最高的透光率以及最小的表面粗糙度和最優(yōu)的表面潤濕性。通過FESEM、AFM等設(shè)備,研究了薄膜的生長機制,結(jié)果發(fā)現(xiàn)不同薄膜之間的結(jié)合比較緊密,其結(jié)合強度要遠大于薄膜與基底之間的結(jié)合強度。隨著薄膜層數(shù)的增加,表面粗糙度會相應(yīng)增加,但變化幅度較小,而表...
【文章來源】:山東大學山東省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:91 頁
【學位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
6的結(jié)構(gòu)、性能及應(yīng)用"> 1.1 LaB6的結(jié)構(gòu)、性能及應(yīng)用
6的晶體結(jié)構(gòu)"> 1.1.1 LaB6的晶體結(jié)構(gòu)
6的基本性質(zhì)"> 1.1.2 LaB6的基本性質(zhì)
6的研究現(xiàn)狀及應(yīng)用"> 1.1.3 LaB6的研究現(xiàn)狀及應(yīng)用
1.2 ITO薄膜的結(jié)構(gòu)、性能及應(yīng)用
1.2.1 ITO薄膜的晶體結(jié)構(gòu)
1.2.2 ITO薄膜的基本性質(zhì)
1.2.3 ITO薄膜的研究現(xiàn)狀及應(yīng)用
1.3 透明導(dǎo)電薄膜的發(fā)展和研究現(xiàn)狀
1.3.1 透明導(dǎo)電金屬薄膜
1.3.2 透明導(dǎo)電氧化物薄膜
1.3.3 疊層透明導(dǎo)電薄膜
1.4 薄膜生長原理及制備方法
1.4.1 薄膜的制備方法
1.4.2 薄膜的生長原理
1.5 基底表面等離子體預(yù)處理
1.6 選題意義及研究內(nèi)容
第二章 實驗內(nèi)容及研究方法
2.1 實驗材料
2.2 主要實驗設(shè)備及功能
2.3 研究內(nèi)容
2.3.1 實驗方案和技術(shù)路線
2.3.2 柔性基底的選擇及等離子體預(yù)處理
2.3.3 單層薄膜以及多層復(fù)合薄膜的制備工藝研究
第三章 基底等離子體預(yù)處理及其性能研究
3.1 預(yù)處理微觀形貌分析
3.1.1 PC微觀結(jié)構(gòu)
3.1.2 PMMA微觀結(jié)構(gòu)
3.1.3 PET微觀結(jié)構(gòu)
3.2 基底光學性能分析
3.3 基底的界面性能分析
3.3.1 基底的接觸角分析
3.3.2 基底的表面形貌以及粗糙度分析
3.3.3 基底的表面高度測試及分析
3.4 本章小結(jié)
第四章 薄膜電極的組織結(jié)構(gòu)研究
4.1 薄膜微觀形貌分析
4.1.1 ITO薄膜微觀形貌分析
6薄膜微觀形貌分析"> 4.1.2 ITO/LaB6薄膜微觀形貌分析
6/ITO薄膜微觀形貌分析"> 4.1.3 ITO/LaB6/ITO薄膜微觀形貌分析
4.2 表面粗糙度分析
4.2.1 三種薄膜表面粗糙度對比
6薄膜表面粗糙度分析"> 4.2.2 ITO/LaB6薄膜表面粗糙度分析
6/ITO薄膜表面粗糙度分析"> 4.2.3 ITO/LaB6/ITO薄膜表面粗糙度分析
4.3 表面高度分析
4.3.1 三種薄膜表面高度對比
6薄膜表面高度分析"> 4.3.2 ITO/LaB6薄膜表面高度分析
6/ITO薄膜表面高度分析"> 4.3.3 ITO/LaB6/ITO薄膜表面高度分析
4.4 本章小結(jié)
第五章 薄膜電極的性能研究
5.1 薄膜光學性能分析
6薄膜光學性能分析"> 5.1.1 ITO/LaB6薄膜光學性能分析
6/ITO薄膜光學性能分析"> 5.1.2 ITO/LaB6/ITO薄膜光學性能分析
5.2 薄膜電學性能分析
6薄膜電學性能分析"> 5.2.1 ITO/LaB6薄膜電學性能分析
6/ITO薄膜電學性能分析"> 5.2.2 ITO/LaB6/ITO薄膜電學性能分析
5.3 薄膜光電性能分析
5.4 本章小結(jié)
第六章 結(jié)論
本論文主要創(chuàng)新點
參考文獻
致謝
附錄
學位論文評閱及答辯情況表
本文編號:3077387
【文章來源】:山東大學山東省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:91 頁
【學位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第一章 緒論
6的結(jié)構(gòu)、性能及應(yīng)用"> 1.1 LaB6的結(jié)構(gòu)、性能及應(yīng)用
6的晶體結(jié)構(gòu)"> 1.1.1 LaB6的晶體結(jié)構(gòu)
6的基本性質(zhì)"> 1.1.2 LaB6的基本性質(zhì)
6的研究現(xiàn)狀及應(yīng)用"> 1.1.3 LaB6的研究現(xiàn)狀及應(yīng)用
1.2 ITO薄膜的結(jié)構(gòu)、性能及應(yīng)用
1.2.1 ITO薄膜的晶體結(jié)構(gòu)
1.2.2 ITO薄膜的基本性質(zhì)
1.2.3 ITO薄膜的研究現(xiàn)狀及應(yīng)用
1.3 透明導(dǎo)電薄膜的發(fā)展和研究現(xiàn)狀
1.3.1 透明導(dǎo)電金屬薄膜
1.3.2 透明導(dǎo)電氧化物薄膜
1.3.3 疊層透明導(dǎo)電薄膜
1.4 薄膜生長原理及制備方法
1.4.1 薄膜的制備方法
1.4.2 薄膜的生長原理
1.5 基底表面等離子體預(yù)處理
1.6 選題意義及研究內(nèi)容
第二章 實驗內(nèi)容及研究方法
2.1 實驗材料
2.2 主要實驗設(shè)備及功能
2.3 研究內(nèi)容
2.3.1 實驗方案和技術(shù)路線
2.3.2 柔性基底的選擇及等離子體預(yù)處理
2.3.3 單層薄膜以及多層復(fù)合薄膜的制備工藝研究
第三章 基底等離子體預(yù)處理及其性能研究
3.1 預(yù)處理微觀形貌分析
3.1.1 PC微觀結(jié)構(gòu)
3.1.2 PMMA微觀結(jié)構(gòu)
3.1.3 PET微觀結(jié)構(gòu)
3.2 基底光學性能分析
3.3 基底的界面性能分析
3.3.1 基底的接觸角分析
3.3.2 基底的表面形貌以及粗糙度分析
3.3.3 基底的表面高度測試及分析
3.4 本章小結(jié)
第四章 薄膜電極的組織結(jié)構(gòu)研究
4.1 薄膜微觀形貌分析
4.1.1 ITO薄膜微觀形貌分析
6薄膜微觀形貌分析"> 4.1.2 ITO/LaB6薄膜微觀形貌分析
6/ITO薄膜微觀形貌分析"> 4.1.3 ITO/LaB6/ITO薄膜微觀形貌分析
4.2 表面粗糙度分析
4.2.1 三種薄膜表面粗糙度對比
6薄膜表面粗糙度分析"> 4.2.2 ITO/LaB6薄膜表面粗糙度分析
6/ITO薄膜表面粗糙度分析"> 4.2.3 ITO/LaB6/ITO薄膜表面粗糙度分析
4.3 表面高度分析
4.3.1 三種薄膜表面高度對比
6薄膜表面高度分析"> 4.3.2 ITO/LaB6薄膜表面高度分析
6/ITO薄膜表面高度分析"> 4.3.3 ITO/LaB6/ITO薄膜表面高度分析
4.4 本章小結(jié)
第五章 薄膜電極的性能研究
5.1 薄膜光學性能分析
6薄膜光學性能分析"> 5.1.1 ITO/LaB6薄膜光學性能分析
6/ITO薄膜光學性能分析"> 5.1.2 ITO/LaB6/ITO薄膜光學性能分析
5.2 薄膜電學性能分析
6薄膜電學性能分析"> 5.2.1 ITO/LaB6薄膜電學性能分析
6/ITO薄膜電學性能分析"> 5.2.2 ITO/LaB6/ITO薄膜電學性能分析
5.3 薄膜光電性能分析
5.4 本章小結(jié)
第六章 結(jié)論
本論文主要創(chuàng)新點
參考文獻
致謝
附錄
學位論文評閱及答辯情況表
本文編號:3077387
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