聚甲基丙烯酸甲酯/二氧化硅（PMMA/Si O₂）復(fù)合材料可以通過簡便的單體澆鑄、本體聚合方法制備,二氧化硅用硅烷偶聯(lián)劑3-（異丁烯酰氧）丙基三甲氧基硅烷（γ-MPS）進行表面修飾,并用紅外光譜表征其甲苯抽提后的組成。當(dāng)加入量為11.76%時,PMMA/Si O₂復(fù)合材料的導(dǎo)熱率達到0.23 W/（m·K）,比基體PMMA提高了27.78%。用PMMA紅外光譜的側(cè)甲基彎曲振動峰（δCH3）與羰基（νC=O）的伸縮振動峰比值可以表示PMMA大分子的偶合終止與歧化終止的比例,隨著二氧化硅含量的增加,歧化終止比例升高,從而使PMMA/Si O₂復(fù)合材料的熱穩(wěn)定性提高,與熱重分析結(jié)果一致。 

【文章來源】：高分子材料科學(xué)與工程. 2016,32(06)北大核心

【文章頁數(shù)】：4 頁

【參考文獻】：
期刊論文
[1]氮化硼填充導(dǎo)熱絕緣復(fù)合材料的研究進展[J]. 秦麗麗,王占京,侯君,瞿雄偉,張立群,Saeed Z,Beckry A.  高分子材料科學(xué)與工程. 2013(09)



本文編號：3054266