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自摻雜Me-MeO x 納米復(fù)合光熱轉(zhuǎn)換涂層的設(shè)計(jì)、制備及性能研究

發(fā)布時(shí)間:2021-01-31 06:09
  光熱轉(zhuǎn)換技術(shù)是將太陽能轉(zhuǎn)換為熱能的最為直接和有效的方式,在傳統(tǒng)的太陽能水熱裝置、太陽能空氣干燥設(shè)備、太陽能集熱發(fā)電技術(shù)中,關(guān)鍵的光熱轉(zhuǎn)化效率問題是涂覆在集熱裝置表面的光熱轉(zhuǎn)換涂層,為了獲得高的光吸收性能,傳統(tǒng)的涂層工藝需要采用一個(gè)復(fù)雜的共濺射技術(shù),通常存在結(jié)構(gòu)工藝復(fù)雜、成本高的問題,不利于實(shí)際的工業(yè)化生產(chǎn)。本文引入自摻雜設(shè)計(jì)思路,利用單一靶材的反應(yīng)濺射技術(shù),設(shè)計(jì)了一種新型自摻雜Me-MeOx(Me=W或Mo)光熱轉(zhuǎn)換涂層,其具有非常優(yōu)異的光學(xué)吸收性能和熱穩(wěn)定性能,并且濺射工藝簡單、制造成本低、光學(xué)吸收易調(diào)控、結(jié)構(gòu)易擴(kuò)展,非常適合于傳統(tǒng)的低成本、大規(guī)模的中高溫光熱利用技術(shù)。將新型的自摻雜光熱轉(zhuǎn)換技術(shù)應(yīng)用于調(diào)控人體溫度的可穿戴技術(shù)中,可以克服傳統(tǒng)的采用焦耳熱效應(yīng)和反射紅外波長的被動(dòng)式加熱方式,達(dá)到主動(dòng)吸收太陽光溫暖人的身體,并反射人體紅外熱輻射進(jìn)行保溫的光熱效果,在戶外應(yīng)急取暖衣料方面具有非常好的應(yīng)用價(jià)值,拓寬了光熱轉(zhuǎn)換涂層在柔性、可穿戴人體熱轉(zhuǎn)換技術(shù)中的應(yīng)用。具體的研究內(nèi)容如下所述:(1)研究了單層WOx薄膜的本征吸收特性,引入了介質(zhì)性WOx、SiO2和Al2O3薄膜作為減反射層,分析其... 

【文章來源】:陜西科技大學(xué)陜西省

【文章頁數(shù)】:140 頁

【學(xué)位級(jí)別】:博士

【部分圖文】:

自摻雜Me-MeO x 納米復(fù)合光熱轉(zhuǎn)換涂層的設(shè)計(jì)、制備及性能研究


圖1-1雙金屬陶瓷基太陽能光熱轉(zhuǎn)換涂層的結(jié)構(gòu)示意圖

工作原理,濺射


Fig.?2-1?(a)?Reactive?magnetron?sputtering?system?and?(b)?operational?principle??2.1.3涂層制備方法??本文選用射頻電源作為濺射源,在不同基底上制備W-0和Mo-O基薄膜。首先,利??用機(jī)械泵和分子泵將濺射腔室的真空度抽到P.OxK^Pa,然后通入Ar作為濺射氣體,并??調(diào)節(jié)真空室內(nèi)的壓力到所需濺射的氣壓值,設(shè)定射頻電源的濺射功率值,啟動(dòng)射頻電源??后,靶材表面輝光放電,在電場(chǎng)的作用下將濺射出的粒子沉積到基底表面上。當(dāng)真空室??通入〇2作為反應(yīng)氣體,被濺射出的粒子與之反應(yīng)生成相應(yīng)的氧化物,并沉積到基底表面??上。通過控制濺射氣壓、濺射功率、Ar/02的流量比、濺射時(shí)間等工藝參數(shù),可以制備??出不同結(jié)構(gòu)、成分和厚度的薄膜。??在濺射涂層之前,所有的基片分別在丙酮、酒精和去離子水中被超聲波清洗15?20??min,隨后被N2吹干,然后將基片固定在樣品旋轉(zhuǎn)臺(tái)上,并在Ar等離子氣氛下轟擊10???20?min以去除基片上的雜質(zhì),提高涂層和基片的結(jié)合力,其中偏壓設(shè)定為450?V,氣壓??設(shè)定為5Pa。另外,所有的靶材被預(yù)濺射10?20min以清除靶材表面的氧化層,提高沉??積涂層的純度。??2.1.4測(cè)試與表征方法??

吸收率,發(fā)射率,不同厚度,氣壓


其在可見光波段具有非常優(yōu)異的本征光譜吸收性能[144]。??基于此,分別在0.6?Pa和1.0?Pa的氣壓下,在鋁基底上濺射了?一系列的不同厚度的??WOx薄膜,其吸收率和發(fā)射率如圖2-2所示,可知薄膜吸收性能的變化對(duì)厚度是非常敏??感的。隨著厚度的增加,\¥(\薄膜的吸收率先逐漸地增加到最大值,然后逐漸地減;??發(fā)射率呈現(xiàn)逐漸增加的趨勢(shì)。在0.6?Pa下制備的厚度為46?nm的WOx薄膜的吸收率最大??為0.82,發(fā)射率為0.054;然而隨著厚度持續(xù)增加,吸收率逐漸地降低到0.755,發(fā)射率??輕微地增加到0.056。對(duì)于1.0?Pa下制備的厚度為60?nm的WOx薄膜,其吸收率最大為??0.836,發(fā)射率為0.053;隨著厚度增加,吸收率表現(xiàn)為輕微的減小,當(dāng)厚度為86?nm左??右時(shí),吸收率降低為0.823,發(fā)射率增加到0.058。??(a)?l.o,?1?(b>i.〇|???Pressure:?0.6?Pa?.?〇?〇g?Pressure:?1.0?Pa?.?q?Qg??§0.8?■?^§?§0.8-??* ̄ ̄??§??B?y?^?-?0.06?2?B?y?^??0.06?g??I06;?:〇.〇4|?:〇.〇4|??Sofar?absorptance?I?o?■§?,?Solar?absorptance?I?§??c/5?〇

【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
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本文編號(hào):3010341

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