納米金屬多層膜的熱穩(wěn)定性研究
發(fā)布時(shí)間:2021-01-17 18:46
Cu系納米金屬多層膜因其具有良好的導(dǎo)電性與力學(xué)性能,廣泛用于微電子和微機(jī)械領(lǐng)域。這些微電子器件的實(shí)際服役環(huán)境往往較為惡劣,其中熱環(huán)境最為典型。由于納米金屬多層膜本身處于熱力學(xué)不平衡狀態(tài),溫度變化會(huì)引起晶粒尺寸以及界面微觀結(jié)構(gòu)特征的改變,出現(xiàn)晶粒長大、界面失穩(wěn)、層狀結(jié)構(gòu)破壞等現(xiàn)象,最終導(dǎo)致材料的失效,嚴(yán)重影響其服役壽命。因此,納米金屬多層膜在熱環(huán)境下較差的穩(wěn)定性己成為限制其在高性能器件領(lǐng)域應(yīng)用的瓶頸。為突破這一瓶頸,確保納米金屬多層膜具有良好的服役壽命和穩(wěn)定的使用性能,對其熱穩(wěn)定性的研究顯得十分必要。本文針對多層膜在微電子領(lǐng)域的需求,設(shè)計(jì)了一系列特殊結(jié)構(gòu)的Cu/X納米金屬多層膜。采用直流磁控濺射法制備了 fcc/fcc體系的Cu/Ag納米多層膜,fcc/hcp體系Cu/Ru納米多層膜和fcc/bcc體系的Cu/Mo、Cu/V納米多層膜。研究了尺度效應(yīng)對多層膜熱穩(wěn)定性的影響,主要包括多層膜的微觀結(jié)構(gòu)、電學(xué)性能和力學(xué)性能的穩(wěn)定性。討論了多層膜的微觀結(jié)構(gòu)和熱穩(wěn)定性之間的關(guān)系,特別是異質(zhì)界面和層內(nèi)結(jié)構(gòu)與其熱穩(wěn)定性之間的關(guān)系,為Cu系金屬多層膜的應(yīng)用提供了實(shí)驗(yàn)依據(jù)和理論支持,而且對設(shè)計(jì)和研發(fā)熱穩(wěn)定...
【文章來源】:南京大學(xué)江蘇省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:122 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1-2五種不同組分多層膜的硬度與調(diào)制周期的關(guān)系圖I1'??
Ag/Ni[39】,fcc/bcc?結(jié)構(gòu):Cu/V丨40]、Ag/V[41]、Cu/W[8,42】、Cu/Mo[43]、Cu/Crl44],fcc/hcp??結(jié)構(gòu):Cu/Co[36]、Cu/Ru[42]、Cu/Zr[44】以及晶體/非晶:Cu/Cu-Zr[45:■。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明,??絕大多數(shù)金屬多層膜的力學(xué)行為具有明顯的尺寸效應(yīng)。從圖1-4總結(jié)的多種金屬??多層膜的硬度隨單層厚度的變化趨勢圖中可以看出,即使同體系的多層膜,報(bào)道??的強(qiáng)度數(shù)值差別也很大,這一方面是因?yàn)樗捎玫膶?shí)驗(yàn)測試方法不同,另一方面??也有可能是由于制備工藝的差異而導(dǎo)致材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)和應(yīng)力狀態(tài)的不同[46]。雖??然不同報(bào)道給出的實(shí)驗(yàn)數(shù)值具有分散性,但是根據(jù)金屬多層膜的硬度與單層厚度??(A)的變化趨勢,總體上可以劃分為三個(gè)區(qū)域,如圖1-4?(I、II、III)所示。三??種不同區(qū)域所對應(yīng)的強(qiáng)化機(jī)制所對應(yīng)的示意圖在圖1-5中[471區(qū)域I,當(dāng)在亞??微米級以上尺度時(shí),硬度的增強(qiáng)符合Hall-Petch(H-P)模型[48]。區(qū)域II,當(dāng)/2減??小至幾納米到幾十納米時(shí),硬度與層厚的關(guān)系偏離H-P模型。偏離原因是在這個(gè)??尺度范圍內(nèi)
溫度對材料的結(jié)構(gòu)與性能影響非常顯著,是必須考慮的因素之一。??Wangt63^人制備了一系列不同尺度的Ni/Ti多層膜,并且系統(tǒng)地研宄了從低溫到??高溫退火過程中多層膜的強(qiáng)度增強(qiáng)或者軟化機(jī)制,如圖1-6所示。該研究發(fā)現(xiàn),??在低溫退火時(shí),多層膜的硬度會(huì)增強(qiáng),這是由于晶界弛豫造成的,而當(dāng)溫度提高??至IJ?300?°C時(shí),尺寸效應(yīng)更加顯著。但是隨著溫度的進(jìn)一步升高,不同尺度的Ni/Ti??多層膜的硬度變化會(huì)出現(xiàn)相反的現(xiàn)象,單層厚度小于16?nm時(shí),Ni/Ti多層膜由??于界面合金化硬度大大增強(qiáng),而單層厚度大于16?nm時(shí),多層膜出現(xiàn)晶粒長大,??導(dǎo)致軟化現(xiàn)象。由此可見,溫度的變化對納米金屬多層膜的微結(jié)構(gòu)造成很大的影??響,從而使材料的力學(xué)性能以及變形機(jī)制發(fā)生改變。??10??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]納米壓痕表征技術(shù)的應(yīng)用與發(fā)展[J]. 陳今龍,周素洪,葉兵,蔣海燕,丁文江. 熱加工工藝. 2018(16)
[2]Cu系納米金屬多層膜微柱體的形變與損傷及其尺寸效應(yīng)[J]. 孫軍,張金鈺,吳凱,劉剛. 金屬學(xué)報(bào). 2016(10)
[3]An Easy Way to Quantify the Adhesion Energy of Nanostructured Cu/X(X=Cr,Ta,Mo,Nb,Zr) Multilayer Films Adherent to Polyimide Substrates[J]. Kai Wu,Jin-Yu Zhang,Gang Liu,Jiao Li,Guo-Jun Zhang,Jun Sun. Acta Metallurgica Sinica(English Letters). 2016(02)
[4]薄膜材料透射電鏡截面樣品的簡單制備方法[J]. 馬秀梅,尤力平. 電子顯微學(xué)報(bào). 2015(04)
[5]磁控濺射技術(shù)的原理與發(fā)展[J]. 王俊,郝賽. 科技創(chuàng)新與應(yīng)用. 2015(02)
[6]尺度對金屬材料電阻率影響的研究進(jìn)展[J]. 張廣平,李孟林,吳細(xì)毛,李春和,羅雪梅. 材料研究學(xué)報(bào). 2014(02)
[7]高性能銅系層狀金屬材料設(shè)計(jì):納米尺度下強(qiáng)化能力與韌化能力思考[J]. 張廣平,朱曉飛. 金屬學(xué)報(bào). 2014(02)
[8]金屬納米多層膜力學(xué)性能研究進(jìn)展[J]. 朱曉瑩,潘峰. 中國材料進(jìn)展. 2011(10)
[9]磁控濺射技術(shù)及其發(fā)展[J]. 李芬,朱穎,李劉合,盧求元,朱劍豪. 真空電子技術(shù). 2011(03)
[10]Effects of Interface and Grain Boundary on the Electrical Resistivity of Cu/Ta Multilayers[J]. M.Wang1,2,B.Zhang2),G.P.Zhang1),Q.Y.Yu1,2)and C.S.Liu2) 1)Shenyang National Laboratory for Materials Science,Institute of Metal Research,Chinese Academy of Sciences,72 Wenhua Road,Shenyang 110016,China 2)Key Laboratory for Anisotropy and Texture of Materials of Ministry of Education,School of Materials&Metallurgy, Northeastern University,3-11 Wenhua Road,Shenyang 110004,China. Journal of Materials Science & Technology. 2009(05)
博士論文
[1]Cu/Ta和Cu/V納米多層膜塊材的制備及性能研究[D]. 曾龍飛.中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2018
[2]難混溶系(銅—鎢、鉬、鈮)復(fù)合膜及多層膜的結(jié)構(gòu)與性能研究[D]. 郭中正.昆明理工大學(xué) 2016
[3]金屬多層膜微觀結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能的尺度效應(yīng)[D]. 魏明真.南京大學(xué) 2015
[4]納米多層膜高溫下微結(jié)構(gòu)的演化[D]. 萬海波.上海交通大學(xué) 2012
[5]若干金屬納米多層膜界面結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能研究[D]. 朱曉瑩.清華大學(xué) 2010
碩士論文
[1]金屬薄膜電學(xué)性能的尺度與溫度效應(yīng)[D]. 佘茜瑋.南京大學(xué) 2012
本文編號:2983405
【文章來源】:南京大學(xué)江蘇省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:122 頁
【學(xué)位級別】:博士
【部分圖文】:
圖1-2五種不同組分多層膜的硬度與調(diào)制周期的關(guān)系圖I1'??
Ag/Ni[39】,fcc/bcc?結(jié)構(gòu):Cu/V丨40]、Ag/V[41]、Cu/W[8,42】、Cu/Mo[43]、Cu/Crl44],fcc/hcp??結(jié)構(gòu):Cu/Co[36]、Cu/Ru[42]、Cu/Zr[44】以及晶體/非晶:Cu/Cu-Zr[45:■。實(shí)驗(yàn)結(jié)果證明,??絕大多數(shù)金屬多層膜的力學(xué)行為具有明顯的尺寸效應(yīng)。從圖1-4總結(jié)的多種金屬??多層膜的硬度隨單層厚度的變化趨勢圖中可以看出,即使同體系的多層膜,報(bào)道??的強(qiáng)度數(shù)值差別也很大,這一方面是因?yàn)樗捎玫膶?shí)驗(yàn)測試方法不同,另一方面??也有可能是由于制備工藝的差異而導(dǎo)致材料內(nèi)部結(jié)構(gòu)和應(yīng)力狀態(tài)的不同[46]。雖??然不同報(bào)道給出的實(shí)驗(yàn)數(shù)值具有分散性,但是根據(jù)金屬多層膜的硬度與單層厚度??(A)的變化趨勢,總體上可以劃分為三個(gè)區(qū)域,如圖1-4?(I、II、III)所示。三??種不同區(qū)域所對應(yīng)的強(qiáng)化機(jī)制所對應(yīng)的示意圖在圖1-5中[471區(qū)域I,當(dāng)在亞??微米級以上尺度時(shí),硬度的增強(qiáng)符合Hall-Petch(H-P)模型[48]。區(qū)域II,當(dāng)/2減??小至幾納米到幾十納米時(shí),硬度與層厚的關(guān)系偏離H-P模型。偏離原因是在這個(gè)??尺度范圍內(nèi)
溫度對材料的結(jié)構(gòu)與性能影響非常顯著,是必須考慮的因素之一。??Wangt63^人制備了一系列不同尺度的Ni/Ti多層膜,并且系統(tǒng)地研宄了從低溫到??高溫退火過程中多層膜的強(qiáng)度增強(qiáng)或者軟化機(jī)制,如圖1-6所示。該研究發(fā)現(xiàn),??在低溫退火時(shí),多層膜的硬度會(huì)增強(qiáng),這是由于晶界弛豫造成的,而當(dāng)溫度提高??至IJ?300?°C時(shí),尺寸效應(yīng)更加顯著。但是隨著溫度的進(jìn)一步升高,不同尺度的Ni/Ti??多層膜的硬度變化會(huì)出現(xiàn)相反的現(xiàn)象,單層厚度小于16?nm時(shí),Ni/Ti多層膜由??于界面合金化硬度大大增強(qiáng),而單層厚度大于16?nm時(shí),多層膜出現(xiàn)晶粒長大,??導(dǎo)致軟化現(xiàn)象。由此可見,溫度的變化對納米金屬多層膜的微結(jié)構(gòu)造成很大的影??響,從而使材料的力學(xué)性能以及變形機(jī)制發(fā)生改變。??10??
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]納米壓痕表征技術(shù)的應(yīng)用與發(fā)展[J]. 陳今龍,周素洪,葉兵,蔣海燕,丁文江. 熱加工工藝. 2018(16)
[2]Cu系納米金屬多層膜微柱體的形變與損傷及其尺寸效應(yīng)[J]. 孫軍,張金鈺,吳凱,劉剛. 金屬學(xué)報(bào). 2016(10)
[3]An Easy Way to Quantify the Adhesion Energy of Nanostructured Cu/X(X=Cr,Ta,Mo,Nb,Zr) Multilayer Films Adherent to Polyimide Substrates[J]. Kai Wu,Jin-Yu Zhang,Gang Liu,Jiao Li,Guo-Jun Zhang,Jun Sun. Acta Metallurgica Sinica(English Letters). 2016(02)
[4]薄膜材料透射電鏡截面樣品的簡單制備方法[J]. 馬秀梅,尤力平. 電子顯微學(xué)報(bào). 2015(04)
[5]磁控濺射技術(shù)的原理與發(fā)展[J]. 王俊,郝賽. 科技創(chuàng)新與應(yīng)用. 2015(02)
[6]尺度對金屬材料電阻率影響的研究進(jìn)展[J]. 張廣平,李孟林,吳細(xì)毛,李春和,羅雪梅. 材料研究學(xué)報(bào). 2014(02)
[7]高性能銅系層狀金屬材料設(shè)計(jì):納米尺度下強(qiáng)化能力與韌化能力思考[J]. 張廣平,朱曉飛. 金屬學(xué)報(bào). 2014(02)
[8]金屬納米多層膜力學(xué)性能研究進(jìn)展[J]. 朱曉瑩,潘峰. 中國材料進(jìn)展. 2011(10)
[9]磁控濺射技術(shù)及其發(fā)展[J]. 李芬,朱穎,李劉合,盧求元,朱劍豪. 真空電子技術(shù). 2011(03)
[10]Effects of Interface and Grain Boundary on the Electrical Resistivity of Cu/Ta Multilayers[J]. M.Wang1,2,B.Zhang2),G.P.Zhang1),Q.Y.Yu1,2)and C.S.Liu2) 1)Shenyang National Laboratory for Materials Science,Institute of Metal Research,Chinese Academy of Sciences,72 Wenhua Road,Shenyang 110016,China 2)Key Laboratory for Anisotropy and Texture of Materials of Ministry of Education,School of Materials&Metallurgy, Northeastern University,3-11 Wenhua Road,Shenyang 110004,China. Journal of Materials Science & Technology. 2009(05)
博士論文
[1]Cu/Ta和Cu/V納米多層膜塊材的制備及性能研究[D]. 曾龍飛.中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2018
[2]難混溶系(銅—鎢、鉬、鈮)復(fù)合膜及多層膜的結(jié)構(gòu)與性能研究[D]. 郭中正.昆明理工大學(xué) 2016
[3]金屬多層膜微觀結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能的尺度效應(yīng)[D]. 魏明真.南京大學(xué) 2015
[4]納米多層膜高溫下微結(jié)構(gòu)的演化[D]. 萬海波.上海交通大學(xué) 2012
[5]若干金屬納米多層膜界面結(jié)構(gòu)及力學(xué)性能研究[D]. 朱曉瑩.清華大學(xué) 2010
碩士論文
[1]金屬薄膜電學(xué)性能的尺度與溫度效應(yīng)[D]. 佘茜瑋.南京大學(xué) 2012
本文編號:2983405
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