在透明導(dǎo)電材料中,氧化物-金屬-氧化物結(jié)構(gòu)的三層膜具有簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)、良好的機(jī)械柔性、優(yōu)良穩(wěn)定的光電性能以及可大規(guī)模生產(chǎn)等特點(diǎn),因此它逐漸成為一種潛在的銦錫氧化物（ITO）替代物。研究表明,中間金屬層對(duì)三層膜的透明導(dǎo)電性能起主導(dǎo)作用,因此,本文首先采用射頻磁控濺射法在三種沉積條件下（34W、Ar,34 W、Ar+H₂和136 W、Ar）制備了一系列不同厚度的單層Cu膜,系統(tǒng)研究了濺射功率與引入H₂對(duì)Cu膜的結(jié)構(gòu)、表面形貌、光電性能以及空氣中室溫下時(shí)效穩(wěn)定性的影響。然后,研究了N₂氣氛對(duì)Cu膜結(jié)構(gòu)及光電性能的影響。最后,在對(duì)單層Cu膜的研究基礎(chǔ)上,采用脈沖磁控濺射法沉積WO₃層,并保持WO₃層的沉積條件不變,制備WO₃/Cu/WO₃三層膜,探討Cu層的沉積條件對(duì)三層膜的光電性能的影響。得到主要研究結(jié)果如下:（1）在純Ar氣氛下沉積Cu膜時(shí),提高濺射功率可提高Cu膜的沉積速率和結(jié)晶度,降低Cu膜的表面粗糙度,增強(qiáng)導(dǎo)電性能和透光性,提高薄膜的穩(wěn)... 

【文章來(lái)源】：武漢科技大學(xué)湖北省

【文章頁(yè)數(shù)】：81 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第1章 緒論
    1.1 引言
    1.2 單層Cu膜的研究現(xiàn)狀
    1.3 氧化物-金屬-氧化物結(jié)構(gòu)的三層膜的研究現(xiàn)狀
    1.4 本課題的主要研究?jī)?nèi)容
第2章 實(shí)驗(yàn)
    2.1 實(shí)驗(yàn)材料
    2.2 薄膜的制備方法
        2.2.1 濺射鍍膜
        2.2.2 薄膜制備
    2.3 薄膜的分析表征方法
        2.3.1 薄膜厚度的測(cè)量
        2.3.2 薄膜表面形貌的表征
        2.3.3 薄膜晶體結(jié)構(gòu)的表征
        2.3.4 薄膜電學(xué)性能的測(cè)試
        2.3.5 薄膜光學(xué)性能的測(cè)試
第3章 濺射功率和沉積氣氛對(duì)Cu膜的結(jié)構(gòu)及光電性能的影響
2對(duì)Cu膜的結(jié)構(gòu)及光電性能的影響">    3.1 濺射功率與引入H₂對(duì)Cu膜的結(jié)構(gòu)及光電性能的影響
2對(duì)Cu膜結(jié)構(gòu)的影響">        3.1.1 濺射功率與引入H₂對(duì)Cu膜結(jié)構(gòu)的影響
2對(duì)Cu膜表面形貌的影響">        3.1.2 濺射功率與引入H₂對(duì)Cu膜表面形貌的影響
2對(duì)Cu膜電學(xué)性能的影響">        3.1.3 濺射功率與引入H₂對(duì)Cu膜電學(xué)性能的影響
2對(duì)Cu膜光學(xué)性能的影響">        3.1.4 濺射功率與引入H₂對(duì)Cu膜光學(xué)性能的影響
2氣氛對(duì)Cu膜結(jié)構(gòu)及光電性能的影響">    3.2 N₂氣氛對(duì)Cu膜結(jié)構(gòu)及光電性能的影響
2氣氛對(duì)Cu膜結(jié)構(gòu)的影響">        3.2.1 N₂氣氛對(duì)Cu膜結(jié)構(gòu)的影響
2氣氛對(duì)Cu膜電學(xué)性能的影響">        3.2.2 N₂氣氛對(duì)Cu膜電學(xué)性能的影響
2氣氛對(duì)超薄Cu膜表面形貌的影響">        3.2.3 N₂氣氛對(duì)超薄Cu膜表面形貌的影響
2氣氛對(duì)超薄Cu膜電學(xué)性能的影響">        3.2.4 N₂氣氛對(duì)超薄Cu膜電學(xué)性能的影響
2氣氛對(duì)超薄Cu膜光學(xué)性能的影響">        3.2.5 N₂氣氛對(duì)超薄Cu膜光學(xué)性能的影響
    3.3 本章小結(jié)
3/Cu/WO₃三層膜光電性能的影響">第4章 Cu層的沉積條件對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜光電性能的影響
3/Cu/WO₃三層膜光電性能的影響">    4.1 Cu層濺射功率對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜光電性能的影響
        4.1.1 Cu層濺射功率對(duì)WO3/Cu表面形貌的影響
3/Cu/WO₃三層膜電學(xué)性能的影響">        4.1.2 Cu層濺射功率對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜電學(xué)性能的影響
3/Cu/WO₃三層膜光學(xué)性能的影響">        4.1.3 Cu層濺射功率對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜光學(xué)性能的影響
3/Cu/WO₃三層膜光電性能的影響">    4.2 低濺射功率沉積Cu層時(shí)沉積氣氛對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜光電性能的影響
        4.2.1 不同Cu層沉積氣氛對(duì)WO3/Cu兩層膜表面形貌的影響
3/Cu/WO₃三層膜電學(xué)性能的影響">        4.2.2 不同Cu層沉積氣氛對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜電學(xué)性能的影響
3/Cu/WO₃三層膜光學(xué)性能的影響">        4.2.3 不同Cu層沉積氣氛對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜光學(xué)性能的影響
3/Cu/WO₃三層膜光電性能的影響">    4.3 高濺射功率沉積Cu層時(shí)沉積氣氛對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜光電性能的影響
        4.3.1 不同Cu層沉積氣氛對(duì)WO3/Cu兩層膜表面形貌的影響
3/Cu/WO₃三層膜電學(xué)性能的影響">        4.3.2 不同Cu層沉積氣氛對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜電學(xué)性能的影響
3/Cu/WO₃三層膜光學(xué)性能的影響">        4.3.3 不同Cu層沉積氣氛對(duì)WO₃/Cu/WO₃三層膜光學(xué)性能的影響
    4.4 本章小結(jié)
第5章 結(jié)論
致謝
參考文獻(xiàn)
附錄1 攻讀碩士學(xué)位期間發(fā)表的論文



本文編號(hào)：2977787