磁控濺射制備透明導電Cu膜及WO 3 /Cu/WO 3 復合膜
發(fā)布時間:2021-01-14 23:48
在透明導電材料中,氧化物-金屬-氧化物結構的三層膜具有簡單的結構、良好的機械柔性、優(yōu)良穩(wěn)定的光電性能以及可大規(guī)模生產(chǎn)等特點,因此它逐漸成為一種潛在的銦錫氧化物(ITO)替代物。研究表明,中間金屬層對三層膜的透明導電性能起主導作用,因此,本文首先采用射頻磁控濺射法在三種沉積條件下(34W、Ar,34 W、Ar+H2和136 W、Ar)制備了一系列不同厚度的單層Cu膜,系統(tǒng)研究了濺射功率與引入H2對Cu膜的結構、表面形貌、光電性能以及空氣中室溫下時效穩(wěn)定性的影響。然后,研究了N2氣氛對Cu膜結構及光電性能的影響。最后,在對單層Cu膜的研究基礎上,采用脈沖磁控濺射法沉積WO3層,并保持WO3層的沉積條件不變,制備WO3/Cu/WO3三層膜,探討Cu層的沉積條件對三層膜的光電性能的影響。得到主要研究結果如下:(1)在純Ar氣氛下沉積Cu膜時,提高濺射功率可提高Cu膜的沉積速率和結晶度,降低Cu膜的表面粗糙度,增強導電性能和透光性,提高薄膜的穩(wěn)...
【文章來源】:武漢科技大學湖北省
【文章頁數(shù)】:81 頁
【學位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第1章 緒論
1.1 引言
1.2 單層Cu膜的研究現(xiàn)狀
1.3 氧化物-金屬-氧化物結構的三層膜的研究現(xiàn)狀
1.4 本課題的主要研究內(nèi)容
第2章 實驗
2.1 實驗材料
2.2 薄膜的制備方法
2.2.1 濺射鍍膜
2.2.2 薄膜制備
2.3 薄膜的分析表征方法
2.3.1 薄膜厚度的測量
2.3.2 薄膜表面形貌的表征
2.3.3 薄膜晶體結構的表征
2.3.4 薄膜電學性能的測試
2.3.5 薄膜光學性能的測試
第3章 濺射功率和沉積氣氛對Cu膜的結構及光電性能的影響
2對Cu膜的結構及光電性能的影響"> 3.1 濺射功率與引入H2對Cu膜的結構及光電性能的影響
2對Cu膜結構的影響"> 3.1.1 濺射功率與引入H2對Cu膜結構的影響
2對Cu膜表面形貌的影響"> 3.1.2 濺射功率與引入H2對Cu膜表面形貌的影響
2對Cu膜電學性能的影響"> 3.1.3 濺射功率與引入H2對Cu膜電學性能的影響
2對Cu膜光學性能的影響"> 3.1.4 濺射功率與引入H2對Cu膜光學性能的影響
2氣氛對Cu膜結構及光電性能的影響"> 3.2 N2氣氛對Cu膜結構及光電性能的影響
2氣氛對Cu膜結構的影響"> 3.2.1 N2氣氛對Cu膜結構的影響
2氣氛對Cu膜電學性能的影響"> 3.2.2 N2氣氛對Cu膜電學性能的影響
2氣氛對超薄Cu膜表面形貌的影響"> 3.2.3 N2氣氛對超薄Cu膜表面形貌的影響
2氣氛對超薄Cu膜電學性能的影響"> 3.2.4 N2氣氛對超薄Cu膜電學性能的影響
2氣氛對超薄Cu膜光學性能的影響"> 3.2.5 N2氣氛對超薄Cu膜光學性能的影響
3.3 本章小結
3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響">第4章 Cu層的沉積條件對WO3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響"> 4.1 Cu層濺射功率對WO3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響
4.1.1 Cu層濺射功率對WO3/Cu表面形貌的影響
3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響"> 4.1.2 Cu層濺射功率對WO3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響"> 4.1.3 Cu層濺射功率對WO3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響"> 4.2 低濺射功率沉積Cu層時沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響
4.2.1 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu兩層膜表面形貌的影響
3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響"> 4.2.2 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響"> 4.2.3 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響"> 4.3 高濺射功率沉積Cu層時沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響
4.3.1 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu兩層膜表面形貌的影響
3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響"> 4.3.2 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響"> 4.3.3 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響
4.4 本章小結
第5章 結論
致謝
參考文獻
附錄1 攻讀碩士學位期間發(fā)表的論文
本文編號:2977787
【文章來源】:武漢科技大學湖北省
【文章頁數(shù)】:81 頁
【學位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
Abstract
第1章 緒論
1.1 引言
1.2 單層Cu膜的研究現(xiàn)狀
1.3 氧化物-金屬-氧化物結構的三層膜的研究現(xiàn)狀
1.4 本課題的主要研究內(nèi)容
第2章 實驗
2.1 實驗材料
2.2 薄膜的制備方法
2.2.1 濺射鍍膜
2.2.2 薄膜制備
2.3 薄膜的分析表征方法
2.3.1 薄膜厚度的測量
2.3.2 薄膜表面形貌的表征
2.3.3 薄膜晶體結構的表征
2.3.4 薄膜電學性能的測試
2.3.5 薄膜光學性能的測試
第3章 濺射功率和沉積氣氛對Cu膜的結構及光電性能的影響
2對Cu膜的結構及光電性能的影響"> 3.1 濺射功率與引入H2對Cu膜的結構及光電性能的影響
2對Cu膜結構的影響"> 3.1.1 濺射功率與引入H2對Cu膜結構的影響
2對Cu膜表面形貌的影響"> 3.1.2 濺射功率與引入H2對Cu膜表面形貌的影響
2對Cu膜電學性能的影響"> 3.1.3 濺射功率與引入H2對Cu膜電學性能的影響
2對Cu膜光學性能的影響"> 3.1.4 濺射功率與引入H2對Cu膜光學性能的影響
2氣氛對Cu膜結構及光電性能的影響"> 3.2 N2氣氛對Cu膜結構及光電性能的影響
2氣氛對Cu膜結構的影響"> 3.2.1 N2氣氛對Cu膜結構的影響
2氣氛對Cu膜電學性能的影響"> 3.2.2 N2氣氛對Cu膜電學性能的影響
2氣氛對超薄Cu膜表面形貌的影響"> 3.2.3 N2氣氛對超薄Cu膜表面形貌的影響
2氣氛對超薄Cu膜電學性能的影響"> 3.2.4 N2氣氛對超薄Cu膜電學性能的影響
2氣氛對超薄Cu膜光學性能的影響"> 3.2.5 N2氣氛對超薄Cu膜光學性能的影響
3.3 本章小結
3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響">第4章 Cu層的沉積條件對WO3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響"> 4.1 Cu層濺射功率對WO3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響
4.1.1 Cu層濺射功率對WO3/Cu表面形貌的影響
3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響"> 4.1.2 Cu層濺射功率對WO3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響"> 4.1.3 Cu層濺射功率對WO3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響"> 4.2 低濺射功率沉積Cu層時沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響
4.2.1 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu兩層膜表面形貌的影響
3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響"> 4.2.2 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響"> 4.2.3 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響"> 4.3 高濺射功率沉積Cu層時沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜光電性能的影響
4.3.1 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu兩層膜表面形貌的影響
3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響"> 4.3.2 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜電學性能的影響
3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響"> 4.3.3 不同Cu層沉積氣氛對WO3/Cu/WO3三層膜光學性能的影響
4.4 本章小結
第5章 結論
致謝
參考文獻
附錄1 攻讀碩士學位期間發(fā)表的論文
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