碳納米管作為一維碳納米材料,具有十分獨特的結(jié)構(gòu)與物理化學性質(zhì).近年來,人們開始著重研究碳納米管的內(nèi)部填充與物質(zhì)傳輸?shù)男再|(zhì),因此,合成高質(zhì)量,高通透性的碳納米管具有重要的意義.采用電子束蒸鍍催化劑CVD法制備碳納米管陣列,并且引入了水蒸汽用以刻蝕多余的無定型碳,最終合成了高質(zhì)量,高通透性的碳納米管陣列.碳管內(nèi)徑主要分布在8nm到15nm之間,高度可達在100μm以上,最高可達厘米級別,管壁厚度一般在1.2²nm之間.進一步通過環(huán)氧樹脂包埋結(jié)合微切片技術(shù),制備出取向碳納米管陣列/環(huán)氧樹脂多孔復合膜,通過一系列的測試證明合成的復合膜中碳納米管保持了高度取向性,同時具有良好的通透性并且沒有宏觀裂縫的出現(xiàn),這保證了復合膜中碳納米管是唯一的物質(zhì)傳輸通道,為進一步研究碳納米管的內(nèi)部填充與修飾,以及碳納米管的內(nèi)部輸運行為奠定了基礎. 

【文章來源】：南京大學學報(自然科學). 2016,52(03)北大核心

【文章頁數(shù)】：8 頁

【文章目錄】：
1 實驗部分
    1.1 水輔助電子束蒸鍍催化劑CVD法合成碳納米管陣列
        1.1.1 催化劑的合成
        1.1.2 碳納米管陣列的制備過程
    1.2 取向碳納米管陣列/環(huán)氧樹脂多孔復合膜的制備
        1.2.1 環(huán)氧樹脂前驅(qū)體的制備
        1.2.2 碳納米管/高分子多孔復合膜的制備過程
2 結(jié)果和討論
    2.1 水輔助電子束蒸鍍催化劑CVD法制備碳納米管陣列的表征及討論
    2.2 取向碳納米管陣列/環(huán)氧樹脂多孔復合膜的相關測試及討論
        2.2.1 取向碳納米管陣列/環(huán)氧樹脂復合膜的通透性測試
        2.2.2 取向碳納米管陣列/環(huán)氧樹脂復合膜的完整性測試



本文編號：2965707