自制靶材,采用射頻磁控濺射法制備超親水TiO₂/SiO₂非晶復(fù)合薄膜,用XRD、AFM、XPS、液滴形狀分析儀等方法進行表征。研究了濺射氣氛、射頻功率以及濺射時間對薄膜親水性能的影響,并探討了TiO₂/SiO₂非晶復(fù)合薄膜的超親水機理。結(jié)果表明,Ti、Si元素進入薄膜晶格,在TiO₂/SiO₂薄膜界面形成Si—O—Ti鍵,約為22.4%;Si—O—Ti鍵的形成增加薄膜表面酸性,提高薄膜表面羥基含量,使薄膜具有超親水特性。 

【文章來源】：化工新型材料. 2017年03期 北大核心

【文章頁數(shù)】：3 頁

【文章目錄】：
1 實驗部分
    1.1 靶材的制備
    1.2 復(fù)合薄膜的制備
    1.3 薄膜樣品的表征
2 結(jié)果與討論
    2.1 TiO2/SiO2復(fù)合薄膜的晶體結(jié)構(gòu)
    2.2 工藝參數(shù)對復(fù)合薄膜親水性能的影響
    2.3 超親水性機理的研究
3 結(jié)論


【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：2932238