氧化物-金屬-氧化物（Oxide-Metal-Oxide,OMO）透明導(dǎo)電薄膜結(jié)構(gòu)與單層透明導(dǎo)電氧化物（TCO）薄膜相比,具有很多優(yōu)點(diǎn):降低薄膜整體厚度,增加柔韌性,利于工業(yè)化生產(chǎn),薄膜穩(wěn)定性好等。但由于金屬層的加入,薄膜的導(dǎo)電性和透光性之間存在著嚴(yán)重的矛盾,通過(guò)摻雜對(duì)中間層金屬進(jìn)行改性,以改變金屬薄膜在氧化物上的生長(zhǎng)方式,獲得超薄的連續(xù)金屬膜層,可以大幅提高薄膜的光電性能。本文采用室溫磁控濺射的方法,在柔性基底上沉積OMO結(jié)構(gòu)薄膜電極,利用反應(yīng)磁控濺射的方法沉積中間金屬A1層,研究沉積時(shí)間和氧氣流量對(duì)中間金屬層A1在不同氧化物表面生長(zhǎng)時(shí)的表面形貌、光學(xué)性能以及電學(xué)性能的影響,并分析了薄膜光電性能與薄膜微觀結(jié)構(gòu)、表面形貌等的內(nèi)在聯(lián)系,探索了薄膜的最佳制備條件。本文制備的ITO-A1-ITO結(jié)構(gòu)薄膜電極,底層和頂層ITO厚度僅20nm,薄膜總厚度在50-70 nm之間,薄膜柔韌性有極大改善,通過(guò)FESEM、AFM等測(cè)試方法研究了 A1薄膜在ITO表面的生長(zhǎng)過(guò)程發(fā)現(xiàn),A1在ITO表面以三維顆粒狀方式生長(zhǎng)。對(duì)中間層進(jìn)行微量的氧摻雜后,A1薄膜由三維顆粒狀生長(zhǎng)變?yōu)槎S層狀生長(zhǎng),當(dāng)氧氣流量為0.... 

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
第一章 緒論
    1.1 引言
    1.2 透明導(dǎo)電薄膜的研究現(xiàn)狀
2O₃薄膜及其摻雜體系">        1.2.1 In₂O₃薄膜及其摻雜體系
        1.2.2 ZnO薄膜及其摻雜體系
2薄膜及其摻雜體系">        1.2.3 SnO₂薄膜及其摻雜體系
        1.2.4 碳納米材料透明導(dǎo)電薄膜
    1.3 氧化物.金屬-氧化物結(jié)構(gòu)透明導(dǎo)電薄膜
    1.4 透明導(dǎo)電薄膜的制備技術(shù)
        1.4.1 真空蒸發(fā)法
        1.4.2 化學(xué)氣相沉積
        1.4.3 溶膠-凝膠法
        1.4.4 噴霧熱分解法
        1.4.5 磁控濺射法
    1.5 選題意義及研究?jī)?nèi)容
第二章 實(shí)驗(yàn)方案及研究方法
    2.1 技術(shù)路線圖
    2.2 薄膜電極的制備方法
        2.2.1 試驗(yàn)用原材料及設(shè)備
x-Oxide電極的制備方法">        2.2.2 Oxide-AlO_x-Oxide電極的制備方法
    2.3 薄膜電極的分析測(cè)試方法
        2.3.1 掃描電子顯微鏡
        2.3.2 原子力顯微鏡
        2.3.3 紫外/可見/近紅外分光光度計(jì)
        2.3.4 四探針電阻測(cè)量?jī)x
        2.3.5 霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)
x/ITO透明導(dǎo)電薄膜的制備及表征">第三章 ITO/AlO_x/ITO透明導(dǎo)電薄膜的制備及表征
x薄膜微觀形貌表征">    3.1 ITO/AlO_x薄膜微觀形貌表征
        3.1.1 氧摻雜前后Al薄膜微觀形貌演變
x表面粗糙度分析">        3.1.2 ITO/AlO_x表面粗糙度分析
x薄膜表面高度分析">        3.1.3 ITO/AlO_x薄膜表面高度分析
x/ITO薄膜電極的光學(xué)性能">    3.2 ITO/AlO_x/ITO薄膜電極的光學(xué)性能
        3.2.1 ITO/Al/ITO的光學(xué)性能
x/ITO的光學(xué)性能">        3.2.2 ITO/AlO_x/ITO的光學(xué)性能
x/ITO薄膜電極的電學(xué)性能">    3.3 ITO/AlO_x/ITO薄膜電極的電學(xué)性能
        3.3.1 ITO/Al/ITO的電學(xué)性能
x/ITO的電學(xué)性能">        3.3.2 ITO/AlO_x/ITO的電學(xué)性能
x/ITO薄膜電極光電性能分析">    3.4 ITO/AlO_x/ITO薄膜電極光電性能分析
    3.5 本章小結(jié)
x/ZnO透明導(dǎo)電薄膜電極">第四章 ZnO/AlO_x/ZnO透明導(dǎo)電薄膜電極
x薄膜的表面形貌">    4.1 ZnO/AlO_x薄膜的表面形貌
x表面形貌的影響">        4.1.1 氧摻雜對(duì)ZnO/AlO_x表面形貌的影響
x表面粗糙度的影響">        4.1.2 氧摻雜對(duì)ZnO/AlO_x表面粗糙度的影響
x表面高度的影響">        4.1.3 氧摻雜對(duì)ZnO/AlO_x表面高度的影響
x/ZnO薄膜光學(xué)性能的影響">    4.2 氧摻雜對(duì)ZnO/AlO_x/ZnO薄膜光學(xué)性能的影響
        4.2.1 ZnO/Al/ZnO的光學(xué)性能
x/ZnO的光學(xué)性能">        4.2.2 ZnO/AlO_x/ZnO的光學(xué)性能
x/ZnO薄膜的電學(xué)性能">    4.3 氧摻雜對(duì)ZnO/AlO_x/ZnO薄膜的電學(xué)性能
        4.3.1 ZnO/Al/ZnO的電學(xué)性能
x/ZnO的電學(xué)性能">        4.3.2 ZnO/AlO_x/ZnO的電學(xué)性能
x/ZnO薄膜光電性能分析">    4.4 ZnO/AlO_x/ZnO薄膜光電性能分析
    4.5 本章小結(jié)
第五章 結(jié)論
參考文獻(xiàn)
致謝
附錄
附件


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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[3]納米碳材料的制備及其薄膜透明導(dǎo)電和場(chǎng)發(fā)射性能的研究[D]. 錢敏.華東師范大學(xué) 2012
[4]ZnO基透明導(dǎo)電膜的制備與摻雜研究[D]. 龔麗.浙江大學(xué) 2011
[5]ZnO薄膜的摻雜和光電性質(zhì)研究[D]. 孫利杰.中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2010



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