超臨界二氧化碳輔助離子插層法制備氧化鉬基功能材料及其應(yīng)用研究
【圖文】:
圖1.1邋(a-d)在硅/二氧化硅基底上通過微機(jī)械剝離法制備的硫化鉬(MoS2)納米片,(a)為單層逡逑硫化鉬(MoS2)納米片;(b)為雙層硫化鉬(MoS2)納米片辦)和(c)為光學(xué)照片,(b)和(d)為對(duì)應(yīng)的逡逑原子力顯微鏡照片PQ]。(e)為電化學(xué)鋰離子插層法剝離層狀材料的示意圖(f)為M0S2納米逡逑片的透射電鏡照片,插圖為M0S2納米片的水溶液照片[21];邋(g)為沉積在桂/二氧化硅基底上的逡逑硅/二氧化硅基底上的原子力顯微鏡照片[21】;(h)邋M0S2納米片分散液(溶劑為N-甲基吡咯烷逡逑酮),硫化鎢(WS2)納米片分散液(溶劑為N-甲基吡咯烷酮)和氮化硼(BN)納米片分散逡逑液(溶劑為異丙胺)[23];邋(i)邋MoS2納米片的掃描電鏡(SEM)照片【23)。(j)石墨烯/MoS2納逡逑米片的SEM照片[23]。逡逑(2)電化學(xué)鋰離子插層剝離法逡逑雖然微機(jī)械剝離法能夠得到原始的單層納米片,但是效率較低,限制了其在逡逑實(shí)際應(yīng)用中的發(fā)展。此外,二維材料領(lǐng)域的發(fā)展,需要大量可溶液加工的二維納逡逑米片作為起始材料,用來制備薄膜器件及功能性復(fù)合材料。近期,ZhangMW等逡逑提出了一種利用電化學(xué)鋰離子插層的新型方法來制備二維過渡金屬硫族化物逡逑(如硫化鑰、硫化輿、硫化欽、硫化錯(cuò)、砸化妮、砸化鶴等)、l#化棚和石墨稀逡逑納米片等。如圖l.le所示,在鋰離子電池的裝置內(nèi),以待剝離的本體材料作為逡逑
烯(沁0),3,4,9,10-花四羧酸(?丁八8)或者3,4,9,10-芘四甲酸二酐(?扣0八)逡逑進(jìn)行前處理,使得硅/氧化硅的表面呈現(xiàn)出類似石墨烯的表面狀態(tài),從而提氋硫逡逑化鑰的層狀生長過程(圖1.2a-1.2c)邋[1\在加熱過程中,揮發(fā)性的低價(jià)氧化鉬逡逑(M003_x)與硫蒸氣發(fā)生反應(yīng),在基底上生成硫化鉬層。通過這樣的過程,制備逡逑出包含單層到少層的硫化鉬納米片,橫向尺寸最大可達(dá)2mm。LinPI等報(bào)道了逡逑通過類似的化學(xué)反應(yīng),制備了薄膜級(jí)別的硫化鉬納米片。具體過程是在絕緣基底逡逑上,將沉積的氧化鉬直接硫化生成硫化鉬。除了利用氧化鑰和硫單質(zhì)作為前驅(qū)體逡逑夕卜,鉬單質(zhì)本身也可以與硫蒸氣發(fā)生反應(yīng),,生成硫化鉬薄膜[26]。由于在這一過程逡逑中,鉬單質(zhì)薄膜的尺寸和厚度直接決定了最終得到的硫化鉬薄膜的尺寸和厚度。逡逑換個(gè)角度來說,在硫蒸氣氣氛下,將沉積在絕緣基底上的四硫代鉬酸銨逡逑((NH4)2M0S4)進(jìn)行熱解
【學(xué)位授予單位】:鄭州大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:TB34;O614.612
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4 趙曉靜;楚f嘆
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