硫化物半導(dǎo)體與貴金屬?gòu)?fù)合納米材料的制備及其光學(xué)響應(yīng)
【圖文】:
recombination逡逑圖1.2半導(dǎo)體材料的光催化進(jìn)程示意圖。[摘自Chem.Soc.Rev.迎,253-278(2009)[61]]逡逑圖1.2是光催化過(guò)程能進(jìn)行下去所需要的條件,可以分為這樣幾個(gè)過(guò)程(1)逡逑材料對(duì)光的吸收以及產(chǎn)生電子-空穴對(duì),(n)在活性位點(diǎn)上進(jìn)行的載流子的分離逡逑和轉(zhuǎn)移,(III)在活性位點(diǎn)表面氧化還原反應(yīng)產(chǎn)生出和02。首先是光吸收方面,逡逑光吸收要求光子的能量要大于或者等于半導(dǎo)體帶隙,這樣電子才會(huì)從價(jià)帶躍遷到逡逑導(dǎo)帶,產(chǎn)生電子空穴對(duì)。通過(guò)增加一些吸光材料,光敏材料,或者拓寬半導(dǎo)體的逡逑帶隙可以增強(qiáng)半導(dǎo)體材料的吸光能力。逡逑接著是在活性位點(diǎn)上載流子的分離和轉(zhuǎn)移,由于半導(dǎo)體表面,半導(dǎo)體的尺寸,逡逑維度,結(jié)構(gòu)和晶體質(zhì)量都會(huì)影響到載流子的分離,因此很容易導(dǎo)致電子空穴的復(fù)逡逑合。如圖1.3邋[61],半導(dǎo)體在水熱法制備下,沒(méi)有經(jīng)過(guò)退火,表面會(huì)產(chǎn)生很多缺逡逑陷
圖1.4半導(dǎo)體能級(jí)產(chǎn)氫的能級(jí)結(jié)構(gòu)示意圖。[摘自文獻(xiàn)Chem.Soc.邋Rev.il,邋2568-2580邋(2013)逡逑[80]]逡逑圖1.4以光解水產(chǎn)氫為例,一般的,這個(gè)過(guò)程的氧化還原反應(yīng)就是將H20中逡逑的H+與e?反應(yīng)產(chǎn)生H2,,邋h+會(huì)與O3?的結(jié)合。對(duì)于光解水反應(yīng)的能級(jí)標(biāo)準(zhǔn)在于:半逡逑導(dǎo)體納米材料的導(dǎo)帶能級(jí)不能比標(biāo)準(zhǔn)氫電極的能級(jí)高,電子才有可能快速傳輸?shù)藉义蠚潆姌O上;與氧電極點(diǎn)位的能級(jí)相比,半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的價(jià)帶位置的能級(jí)更正一點(diǎn),逡逑才有可能使空穴傳輸?shù)窖蹼姌O上,總體來(lái)說(shuō),半導(dǎo)體的帶隙要大于或者等于逡逑1.23eV[64]。半導(dǎo)體在光激發(fā)下產(chǎn)生電子空穴對(duì)之后,反應(yīng)必須在納米粒子表面逡逑的活性位點(diǎn)進(jìn)行,合適的活性位點(diǎn)會(huì)大大提高光催化效率,如MoS2和rGo[65]。逡逑6逡逑
【學(xué)位授予單位】:武漢大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號(hào)】:TB383.1;TB33
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