【摘要】：評(píng)述了超臨界流體技術(shù)的原理、特點(diǎn)以及在表面精飾領(lǐng)域的應(yīng)用和進(jìn)展,重點(diǎn)介紹了超臨界CO_2清洗硅晶圓,超臨界萃取提純電鍍和化工中間體,超臨界流體制備納米微粒,超臨界流體電沉積和化學(xué)沉積,超臨界水氧化技術(shù)在處理各種難降解有機(jī)廢水、工業(yè)污泥、廢舊印刷電路板等方面的應(yīng)用,以及超臨界流體處理設(shè)備上的進(jìn)展。事實(shí)說明,超臨界流體技術(shù)在表面精飾行業(yè)有廣闊的應(yīng)用前景,是古老的表面精飾行業(yè)向技術(shù)更先進(jìn),工藝更環(huán)保,鍍層質(zhì)量更優(yōu)異方向邁進(jìn)的新途徑。
[Abstract]:The principle, characteristics, applications and progress of supercritical fluid technology in the field of surface finishing are reviewed. The cleaning of silicon wafers by supercritical CO_2, the purification of electroplating and chemical intermediates by supercritical extraction, and the preparation of nanoparticles by supercritical fluid are emphasized. The application of supercritical fluid electrodeposition and chemical deposition, supercritical water oxidation technology in the treatment of various refractory organic wastewater, industrial sludge, waste printed circuit board and so on, as well as the development of supercritical fluid treatment equipment. The facts show that the supercritical fluid technology has a broad application prospect in the surface finishing industry, and it is a new way for the ancient surface finishing industry to advance in the direction of more advanced technology, more environmentally friendly technology and better coating quality.
【作者單位】： 南京大學(xué);
【分類號(hào)】：TQ413;TB306

【參考文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前10條

1 方景禮;;印制板和電子元件的超臨界流體清洗技術(shù)[J];印制電路信息;2016年04期

2 郭燕清;宋仁國;陳亮;戈云杰;王超;宋若希;;納米Al_2O_3添加劑含量對(duì)Cu-Sn合金鍍層微結(jié)構(gòu)及性能的影響[J];材料保護(hù);2015年02期

3 沈宇;雷衛(wèi)寧;錢海峰;劉維橋;張桂尚;;超臨界流體鍍層制備技術(shù)及其研究進(jìn)展[J];機(jī)械設(shè)計(jì)與制造工程;2015年01期

4 趙斌;趙明濤;張艷飛;楊俊和;;Deposition of Cu seed layer film by supercritical fluid deposition for advanced interconnects[J];Chinese Physics B;2013年06期

5 周海云;姜偉立;吳海鎖;申哲明;蔣永偉;曹蕾;;超臨界水氧化有機(jī)廢物研究應(yīng)用現(xiàn)狀及趨勢(shì)分析[J];環(huán)境科技;2012年06期

6 王繼峰;李靜;楊建廣;;一種從廢舊電路板中回收銅的新工藝[J];濕法冶金;2012年02期

7 王燕磊;張占文;李波;江波;;金屬Pd薄膜的超臨界流體沉積制備及其結(jié)構(gòu)表征[J];物理學(xué)報(bào);2011年08期

8 廖傳華;褚旅云;方向;朱躍釗;;超臨界水氧化法在高濃度難降解印染廢水治理中的應(yīng)用[J];印染助劑;2008年12期

9 江濤;張建;李方圓;;環(huán)境友好型新技術(shù)——超臨界水氧化法[J];污染防治技術(shù);2008年01期

10 徐s，

本文編號(hào)：2276617