【摘要】：超導涂層導體是解決當今能源危機的一個重要材料,而Ni合金基帶是制備高性能涂層導體的基礎.本論文將高溫固溶后的Ni-5%W基帶在磷系拋光液中進行電化學拋光,通過對拋光電流密度和拋光時間的探索,認為0.1~0.12A/cm~2,2~2.5min條件下能夠獲得非常平整的基帶表面,樣品的均方根粗糙度RMS=0.889nm.并通過自氧化外延NiO阻隔層進一步驗證了拋光的可行性和必要性.為后續(xù)涂層的制備打下良好的基礎,對制備高性能超導涂層導體具有重要指導意義.
[Abstract]:Superconducting coated conductor is an important material to solve the energy crisis, and Ni alloy substrate is the basis of preparing high performance coated conductor. In this paper, the Ni-5%W substrate after high temperature solution is electrochemically polished in the phosphate polishing solution. By exploring the polishing current density and polishing time, it is considered that the surface of the substrate can be very smooth and the root-mean-square roughness RMS=0.889nm. of the sample can be obtained under the condition of 0.1 ~ 0.12A / cm ~ (2) ~ (2) ~ (2) ~ (2) ~ (2) ~ (2.5) minutes. The feasibility and necessity of polishing are further verified by self-oxidation epitaxial NiO barrier layer. It lays a good foundation for the subsequent preparation of superconducting coatings and has important guiding significance for the preparation of high performance superconducting coating conductors.
【作者單位】： 材料先進技術教育部重點實驗室西南交通大學超導與新能源研究開發(fā)中心;
【基金】：國家科技計劃項目(2014AA032701) 國家自然科學基金(51072168,51377136)資助的課題
【分類號】：TM26

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本文編號：2236432