【摘要】：研究了電流密度對鎳-鐵薄膜的電化學(xué)過程、成分、表面形貌、耐蝕性和磁性能的影響。通過實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),鎳-鐵薄膜的電沉積屬于一種"異常共沉積"現(xiàn)象。低電流密度下,鎳-鐵薄膜中鐵的質(zhì)量分?jǐn)?shù)較高;高電流密度下,鎳-鐵薄膜中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)較高。鎳-鐵薄膜屬于一種典型的顆粒膜層,在4A/dm2下制得的鎳-鐵薄膜表面致密、顆粒細(xì)致、耐蝕性較好。隨著電流密度的增大,鎳-鐵薄膜的矯頑力逐漸升高,而比飽和磁化強(qiáng)度逐漸降低。
[Abstract]:The effects of current density on the electrochemical process, composition, surface morphology, corrosion resistance and magnetic properties of Ni-Fe thin films were investigated. It is found that electrodeposition of Ni-Fe thin films is an abnormal co-deposition phenomenon. At low current density, the mass fraction of iron in Ni-Fe film is higher than that in Ni-Fe thin film at high current density, and the mass fraction of Ni in Ni-Fe film is higher at high current density. Ni-Fe thin film is a typical granular film. The Ni-Fe film prepared under 4A/dm2 has compact surface, fine grain and good corrosion resistance. With the increase of current density, the coercivity of Ni-Fe thin films increases and the specific saturation magnetization decreases.
【作者單位】： 吉林化工學(xué)院;
【分類號】：TB383.2;TM271

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【共引文獻(xiàn)】

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本文編號：2194356