發(fā)布時間：2018-04-20 23:28

  本文選題：陽極氧化鋁 + 交流電沉積��； 參考：《材料工程》2017年11期

【摘要】：通過陽極氧化技術(shù)制備高度有序的多孔陽極氧化鋁(AAO),交流擴孔后,在不同條件下向氧化鋁孔內(nèi)以50Hz的交流頻率沉積Cu-Ni納米復合粒子。經(jīng)光譜測試分析可知:在電壓12V、時間600s、溫度25℃條件下制備的涂層具有良好的太陽光吸收性能,吸收率為0.91、發(fā)射率為0.18、品質(zhì)因子為4.9。經(jīng)SEM,XRD分析可知,復合氧化膜涂層表面得到CuAl_2O_4/Cu-Ni復合納米棒陣列。目標涂層經(jīng)600℃高溫處理后,吸收率、發(fā)射率波動很小,涂層體系的熱穩(wěn)定性得到提高。其中,CuAl_2O_4的存在限制高溫環(huán)境下Cu,Ni金屬顆粒在界面處的擴散,減小氧化概率。
[Abstract]:The highly ordered porous anodic alumina (AAOO) was prepared by anodizing technique. After AC reaming, the Cu-Ni nanoparticles were deposited into the alumina pore at 50Hz frequency under different conditions. The results of spectral analysis show that the coatings prepared at voltage of 12V, time of 600s and temperature of 25 鈩，

本文編號：1779942