本文選題：硫化鋅　切入點(diǎn)：化學(xué)水浴法　出處：《中山大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)》2017年03期

【摘要】：采用化學(xué)水浴法制備了ZnS薄膜,并從沉積ZnS薄膜的化學(xué)反應(yīng)原理出發(fā),對(duì)其結(jié)構(gòu)和性能進(jìn)行了綜合研究。結(jié)果表明:隨著沉積時(shí)間的增加,ZnS薄膜厚度增加,其光學(xué)透過(guò)率降低,薄膜的禁帶寬度也隨之變小,最小值為3.74 e V;而薄膜的粗糙度變化不大,其值在6~9 nm之間。隨著反應(yīng)物濃度的增加,薄膜的光學(xué)透過(guò)率呈先增加后減小的變化,當(dāng)反應(yīng)物濃度過(guò)低或過(guò)高時(shí),沉積反應(yīng)都會(huì)向同質(zhì)反應(yīng)偏移,在薄膜表面生成雜質(zhì),導(dǎo)致薄膜不均勻。當(dāng)沉積時(shí)間為120 min,ZnSO_4、SC(NH_2)_2和NH_3·H_2O的濃度分別為0.03、0.4和4.0 mol/L時(shí),沉積的ZnS薄膜呈均勻致密結(jié)構(gòu),成分為單一ZnS相,其光學(xué)透過(guò)率在450~900 nm波段高于70%。
[Abstract]:ZnS thin films were prepared by chemical bath method. The structure and properties of ZnS thin films were studied based on the chemical reaction principle. The results show that the optical transmittance decreases with the increase of deposition time. With the increase of reactant concentration, the optical transmittance of the films increases first and then decreases with the increase of the concentration of reactants, and the minimum band gap is 3.74 EV, while the roughness of the films is not changed much, with the increase of reactant concentration, the roughness of the films is between 6 nm and 9 nm, and the optical transmittance of the films increases firstly and then decreases. When the concentration of reactants is too low or too high, the deposition reaction will shift to the homogeneous reaction, resulting in the formation of impurities on the surface of the film, resulting in the film being uneven. When the deposition time is 120 mins, the concentration of ZnSO4SCSO4SCSS-STAN-2 and NH_3 H2O is 0.03n0.4,4.0 mol/L, respectively. The deposited ZnS thin films have homogeneous dense structure and single ZnS phase, and their optical transmittance is higher than 70nm at 450 nm.
【作者單位】： 青海民族大學(xué)物理與電子信息科學(xué)學(xué)院;中山大學(xué)物理學(xué)院∥廣東省光伏技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：青海省應(yīng)用基礎(chǔ)研究計(jì)劃資助項(xiàng)目(2014-ZJ-725) 廣東省教育廳資助項(xiàng)目(2013CXZDA002)
【分類(lèi)號(hào)】：TB383.2;TM914.4

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本文編號(hào)：1664716