氬氣對MPCVD制備納米金剛石薄膜的影響
本文選題:納米金剛石 切入點:MPCVD微波等離子體 出處:《人工晶體學(xué)報》2017年04期 論文類型:期刊論文
【摘要】:納米金剛石(NCD)在精密機械、光學(xué)真空窗口等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。利用微波等離子體化學(xué)氣相沉積法(MPCVD)以乙醇、氬氣和氫氣為氣源,通過改變氬氣濃度探究氬氣對NCD膜光學(xué)性質(zhì)的影響,利用掃描電子顯微鏡(SEM)、Raman光譜、X射線衍射儀(XRD)和紅外光譜對不同氬氣濃度沉積的薄膜的結(jié)構(gòu)、成分和性質(zhì)進行表征。結(jié)果表明,隨著氬氣濃度升高,NCD膜表面粗糙度降低,同時金剛石的純度下降,在此作用下,NCD膜的透光性隨氬氣濃度先升高后降。
[Abstract]:Nanocrystalline diamond (NCD) has been widely used in precision machinery, optical vacuum window and other fields. MPCVD was prepared by microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) with ethanol, argon and hydrogen as gas sources. The effect of argon on the optical properties of NCD films was investigated by changing the concentration of argon. The structure of films deposited with different argon concentrations was studied by scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD). The results show that the surface roughness of NCD films decreases and the purity of diamond decreases with the increase of argon concentration, and the transmittance of NCD films decreases with the increase of argon concentration.
【作者單位】: 武漢工程大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院湖北省等離子體化學(xué)與新材料重點實驗室;
【基金】:國家自然科學(xué)基金(11575134)
【分類號】:TB383.2;TQ163
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