本文關(guān)鍵詞： 燒結(jié)NdFeB 磁控濺射 Ni膜 耐腐蝕性能　出處：《材料保護》2017年04期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：為改善燒結(jié)釹鐵硼(NdFeB)磁體的耐腐蝕性能,在磁體表面用磁控濺射方法制備了Ni薄膜。利用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察了Ni薄膜的組織形貌,利用電化學(xué)測試、中性鹽霧試驗(NSS)測試了鍍膜樣品的耐腐蝕性能,研究了濺射功率和負(fù)偏壓對Ni薄膜組織結(jié)構(gòu)、電化學(xué)性能和中性鹽霧環(huán)境下耐腐蝕性能的影響。結(jié)果表明:Ni薄膜的厚度和致密性是影響其耐腐蝕性能的關(guān)鍵因素;隨濺射功率增大,Ni薄膜厚度增大,但晶粒尺寸變大、致密性降低,耐腐蝕性能先升高后降低;加負(fù)偏壓后,Ni薄膜厚度有所減小,但膜層表面更加光滑、組織更加致密均勻,因此鍍膜樣品耐腐蝕性能有所提高;在濺射功率為100~120 W、負(fù)偏壓為150 V條件下制備的磁控濺射鍍Ni樣品具有最好的耐腐蝕性能。
[Abstract]:In order to improve the corrosion resistance of sintered NdFeB magnets, Ni thin films were prepared by magnetron sputtering on the magnets. Neutral salt spray test (NSS) was used to test the corrosion resistance of the coating samples. The sputtering power and negative bias voltage on the microstructure of Ni thin films were studied. The results show that the thickness and densification of the Ni thin films are the key factors affecting the corrosion resistance of Ni films, and the thickness of Ni films increases with the sputtering power, but the grain size increases with the increase of sputtering power. The thickness of Ni film decreases after negative bias voltage, but the surface of the film is smoother and the microstructure is more compact and uniform, so the corrosion resistance of the coating sample is improved. The Ni samples prepared by magnetron sputtering with a sputtering power of 100W and a negative bias voltage of 150V have the best corrosion resistance.
【作者單位】： 華南理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院;
【基金】：教育部新世紀(jì)優(yōu)秀人才項目(NCET-11-0156) 廣東省科技計劃項目(2014A050503018,2015B010105008) 廣州市項目(2014J4100013) 華南理工大學(xué)中央高校基本科研業(yè)務(wù)費項目(2015ZP030)資助
【分類號】：TB306;TM271

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本文編號：1521451