本文關(guān)鍵詞： YSiO YSiO 第一性原理 力學(xué)性能　出處：《材料工程》2017年07期 　論文類(lèi)型：期刊論文

【摘要】：為深入研究C_f/SiC復(fù)合材料釔硅酸鹽涂層材料Y_2SiO_5與Y_2Si_2O_7的力學(xué)性能,為釔硅酸鹽涂層體系的設(shè)計(jì)提供理論依據(jù),基于第一性原理廣義梯度近似,研究釔硅酸鹽理想晶體X1-Y_2SiO_5和γ-Y_2Si_2O_7的電子結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能。結(jié)果表明:X1-Y_2SiO_5和γ-Y_2Si_2O_7均為機(jī)械穩(wěn)定結(jié)構(gòu),X1-Y_2SiO_5與γ-Y_2Si_2O_7的體模量、剪切模量、彈性模量、泊松比分別為112,49,128GPa,0.31和114,55,142GPa,0.29。可見(jiàn)X1-Y_2SiO_5的模量較γ-Y_2Si_2O_7低。同時(shí)研究二者理想晶體的韌性、熱膨脹系數(shù)、殘余應(yīng)力。結(jié)果表明:X1-Y_2SiO_5韌性較γ-Y_2Si_2O_7好,熱膨脹系數(shù)較γ-Y_2Si_2O_7高,殘余應(yīng)力較γ-Y_2Si_2O_7低。
[Abstract]:In order to study the mechanical properties of yttrium silicate coating material Ys _ 2SiO _ 5 and Ys _ 2Si _ 2O _ 7, the theoretical basis for the design of yttrium silicate coating system is provided. Based on the first-principle generalized gradient approximation, the electronic structures of yttrium silicate ideal crystals X _ 1-Ys _ 2SiO _ s _ 5 and 緯 -Y _ s _ 2Si _ 2O _ O _ 2O _ 7 are studied. Mechanical properties. The results show that the structure of 1: X _ 1-Y _ S _ 2SiO _ 5 and 緯 -Y _ Y _ 2Si _ 2O _ 7 are mechanically stable. The bulk modulus, shear modulus, elastic modulus and Poisson's ratio of X _ 1-Y _ 2SiO _ 5 and 緯 -Y _ 2SiO _ 2O _ 7 are 0.31 and 114 respectively. It can be seen that the modulus of X1-Y2SiO5 is lower than that of 緯 -Y2Si2O7. At the same time, the toughness and thermal expansion coefficient of the two ideal crystals are studied. Residual stress. The results show that the toughness of 1% X _ 1-Y _ S _ 2SiO _ 5 is better than that of 緯 -Y _ Y _ 2Si _ 2O _ 7, and the coefficient of thermal expansion is higher than that of 緯 -Y _ T _ 2Si _ 2O _ 7. The residual stress is lower than that of 緯 -Y2Si2SiS _ 2Si _ 2O _ 7.
【作者單位】： 北京航空制造工程研究所高能束流加工技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：北京航空制造工程研究所基金(201510407)
【分類(lèi)號(hào)】：TB306
【正文快照】： Cf/SiC復(fù)合材料已成功用于噴管、推力室等發(fā)動(dòng)機(jī)高溫部件。但Cf/SiC復(fù)合材料工程化應(yīng)用主要瓶頸問(wèn)題是其高溫抗氧化性能差。表面涂層法是復(fù)合材料實(shí)現(xiàn)高溫長(zhǎng)時(shí)抗氧化的主要方法[1]。目前,表面涂層材料經(jīng)歷了莫來(lái)石、Si-W系[2]、Si-Mo系[3,4]等不同的發(fā)展歷程。近年來(lái),硅酸釔系

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本文編號(hào)：1486306