本文關(guān)鍵詞：穆勒矩陣橢偏測(cè)量實(shí)驗(yàn)平臺(tái)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)　出處：《華中科技大學(xué)》2015年碩士論文　論文類型：學(xué)位論文

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【摘要】：在納米技術(shù)研究和納米制造工藝等應(yīng)用領(lǐng)域,納米結(jié)構(gòu)測(cè)量方法研究日顯重要。在納米測(cè)量實(shí)際操作中,不僅需要快捷、精確地測(cè)量出納米結(jié)構(gòu)重要三維形貌尺寸,同時(shí)需要盡可能減小對(duì)被測(cè)樣品的破壞和污染。由于傳統(tǒng)納米結(jié)構(gòu)測(cè)量手段無(wú)法同時(shí)滿足上述兩點(diǎn),本學(xué)位論文在國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)的資助下,研究穆勒矩陣橢偏測(cè)量實(shí)驗(yàn)平臺(tái)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)。主要工作如下:完成了一種雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器的穆勒矩陣橢偏測(cè)量光路的設(shè)計(jì),并通過(guò)分析比較關(guān)鍵元件選型,確定了光學(xué)硬件組成。重點(diǎn)介紹了光學(xué)硬件平臺(tái)的設(shè)計(jì),并結(jié)合光路設(shè)計(jì)和相應(yīng)光學(xué)元件選型,將起偏光路和檢偏光路最大程度的集成到一個(gè)光學(xué)平臺(tái)上,并以此為基礎(chǔ)開展測(cè)量實(shí)驗(yàn)平臺(tái)控制單元的搭建和調(diào)試。完成了基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步運(yùn)動(dòng)控制的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn),即通過(guò)實(shí)時(shí)采集兩個(gè)帶動(dòng)補(bǔ)償器旋轉(zhuǎn)的電機(jī)零位信號(hào),當(dāng)兩個(gè)電機(jī)處于同步狀態(tài)時(shí),所設(shè)計(jì)的同步信號(hào)觸發(fā)采集卡向光譜儀外部觸發(fā)接口發(fā)出光譜采集信號(hào),完成對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)精確的同步采集。在測(cè)量實(shí)驗(yàn)平臺(tái)所需的光學(xué)硬件和控制方案搭建完成后,對(duì)整個(gè)測(cè)量實(shí)驗(yàn)平臺(tái)進(jìn)行集成調(diào)試和性能優(yōu)化。首先以空氣介質(zhì)為測(cè)量對(duì)象,對(duì)測(cè)量實(shí)驗(yàn)平臺(tái)的測(cè)量精度進(jìn)行評(píng)估,同時(shí)對(duì)相應(yīng)關(guān)鍵元件進(jìn)行性能評(píng)估。然后對(duì)已知納米結(jié)構(gòu)特征的標(biāo)準(zhǔn)樣件進(jìn)行測(cè)量,通過(guò)分析測(cè)量數(shù)據(jù),進(jìn)一步排除影響實(shí)驗(yàn)平臺(tái)測(cè)量精度的可能因素,以提高測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。
[Abstract]:In the research of nanotechnology and nano manufacturing technology application, more and more research on nano structure measurement method. In nanometer measurement in the actual operation, not only the need for fast, accurate measurement of nanometer structure important 3D shape size, also need to minimize the measured sample damage and pollution. Because the traditional measurement methods to nano structure at the same time to meet the above two points, this thesis in the national key scientific instrument and equipment development projects funded by the research, design and implementation of the Muller matrix ellipsometry experiment platform. The main work is as follows: the Muller matrix of a double rotating compensator ellipsometer offset measurement optical path design, and through the analysis and comparison of key components selection, optical the hardware composition was determined. The paper mainly introduces the design of optical hardware platform, combined with the optical design and the corresponding optical element selection, will play a polarizing road and the partial seizure The maximum optical path integrated into an optical platform, and as a basis to build and debug the measurement platform control unit. The design and Realization of double synchronous rotating compensator based on motion control, through real-time acquisition of two rotating electric machine drives the compensator zero position signal, when the two motors are in sync when the synchronization signal acquisition card to design the trigger spectrometer external trigger interface to send signal spectrum, synchronous acquisition of accurate measurement data. The optical hardware and control scheme is required in the measurement experiment platform is built after the completion of the integration debugging and performance optimization of the measurement platform. The first to air medium for measurement object to evaluate the measurement accuracy of the experimental platform, and evaluate the performance of the corresponding key element. Then the known nanometer structure standard The sample is measured, and the possible factors that affect the accuracy of the experimental platform are further eliminated by analyzing the measured data, so as to improve the accuracy and reliability of the measurement results.

【學(xué)位授予單位】：華中科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2015
【分類號(hào)】：TB383.1

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本文編號(hào)：1433492