低溫沉積金剛石薄膜的研究
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【摘要】:利用微波等離子體化學氣相沉積法,以甲烷、氫氣和氬氣作為工作氣體,在較低的沉積溫度下,沉積得到了連續(xù)的金剛石薄膜。利用掃描電子顯微鏡、X射線衍射儀、拉曼光譜儀分別對金剛石薄膜的表面形貌、生長結(jié)構(gòu)以及沉積質(zhì)量進行了表征。實驗結(jié)果表明,氬氣的引入雖然可以有效的降低獲得金剛石薄膜所需的基片溫度,但為了提高金剛石薄膜的質(zhì)量,需要適當?shù)奶岣呶⒉üβ省M瑫r,當基片溫度一定時,在CH4/H2/Ar體系和CH4/H2體系下均可獲得表面形貌與生長結(jié)構(gòu)相似的金剛石薄膜,且可能利用CH4/H2/Ar作為工作氣體沉積金剛石薄膜所需要的微波功率更低。
【作者單位】: 武漢工程大學湖北省等離子體化學與新材料重點實驗室;
【基金】:湖北省教育廳科學技術(shù)研究計劃優(yōu)秀中青年人才項目(No.Q20151517) 武漢工程大學科學研究基金項目(No.K201506)
【分類號】:TQ163;TB383.2
【正文快照】: 0引言金剛石膜在電學、光學、機械、熱學等方面表現(xiàn)出的優(yōu)良性能,使其受到廣泛的關(guān)注[1-3]。其中化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,CVD)金剛石因其可具有與天然金剛石相媲美的特性,而引起了科研工作者的興趣[4-5]。但在利用CVD技術(shù)制備微米金剛石膜的過程中,基片溫度一
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9 記者 黃健 劉s,
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