本文關(guān)鍵詞：納米臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)樣塊的研制與評(píng)價(jià)

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【摘要】：介紹了納米臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)樣塊的用途及國(guó)內(nèi)研制樣塊的情況,設(shè)計(jì)了納米臺(tái)階高度樣塊的結(jié)構(gòu)和制作工藝流程,制作了高度20nm~100nm的樣塊。以20nm、50nm、100nm為例對(duì)樣塊的臺(tái)階高度、臺(tái)階上下表面平行度、臺(tái)階測(cè)量區(qū)域的粗糙度、均勻性、穩(wěn)定性進(jìn)行了考核。結(jié)果表明,研制的樣塊臺(tái)階高度與設(shè)計(jì)值基本一致,穩(wěn)定性好,與美國(guó)VLSI公司的相同高度的臺(tái)階高度標(biāo)準(zhǔn)樣塊相比,本文制作樣塊的平行度、粗糙度、均勻性與VLSI樣塊評(píng)價(jià)測(cè)量結(jié)果一致。
【作者單位】： 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第十三研究所;
【分類號(hào)】：TB383.1
【正文快照】： 1引言隨著納米科技與超精密加工技術(shù)的快速發(fā)展,相關(guān)器件和結(jié)構(gòu)的尺寸越來(lái)越小,測(cè)量精度的要求也越來(lái)越高[1],從而對(duì)微納米尺寸測(cè)量提出了更高的要求。臺(tái)階高度是器件的主要參數(shù),臺(tái)階儀、納米測(cè)量機(jī)等測(cè)量微納尺寸臺(tái)階高度的儀器,其準(zhǔn)確度的保證是該參數(shù)準(zhǔn)確測(cè)量的前提[2~4]。

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

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中國(guó)重要會(huì)議論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前1條

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本文編號(hào)：1289906