本文關(guān)鍵詞：ITO導(dǎo)電玻璃化學(xué)鍍鎳的前處理及鍍鎳工藝參數(shù)的研究

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【摘要】：ITO(氧化銦錫)透明導(dǎo)電薄膜是一種重要的光電功能薄膜,它在平板顯示技術(shù)、有機(jī)發(fā)光二極管和太陽能電池等領(lǐng)域中有著重要的作用。復(fù)雜線路的設(shè)計以及ITO的高電阻限制了它的應(yīng)用,在ITO導(dǎo)電玻璃表面進(jìn)行化學(xué)鍍鎳是降低其電阻值行之有效的方法。但鍍層與基體之間的結(jié)合力、鍍層的選擇性沉積是急需解決的問題。本文以ITO作為研究基體材料,研究了化學(xué)鍍鎳前處理技術(shù),獲得的基底選擇性良好,然后施以酸性化學(xué)鍍鎳,得到的鍍層結(jié)合力佳。通過外觀目測,結(jié)合力測試,SEM,EDS對鍍層的分析,確定了前處理工藝最佳條件。研究結(jié)果表明,在不同類型的刻蝕液中,以磷酸為主的刻蝕液(0.02~0.03mol/L)能夠得到刻蝕均勻的表面;同時以丁二酸為主的催化液得到的鍍層表面光亮。通過探究時間、溫度和濃度分別對蝕刻、催化、活化效果的影響,并觀察鍍層表面形貌和結(jié)合力情況來確定工藝參數(shù),最終得到無漏鍍的鍍層。實(shí)驗(yàn)研究了工藝參數(shù)對鍍鎳層的影響,確定了最佳的鍍鎳工藝。通過對比不同工藝得到的鍍層的沉積速率、鍍層形貌、覆蓋率和結(jié)合力來確定工藝條件,得到了結(jié)合力良好且方阻小的鍍鎳層。本工藝可以得到結(jié)合力和選擇性良好的鍍層,熱處理實(shí)驗(yàn)表明,鍍層在控制熱處理溫度在530℃,得到的鍍層平整,顆粒均勻。
【學(xué)位授予單位】：南京航空航天大學(xué)
【學(xué)位級別】：碩士
【學(xué)位授予年份】：2016
【分類號】：TB306

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本文編號：1228693