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共晶和多晶型的制備及性能研究

發(fā)布時(shí)間:2017-10-22 00:11

  本文關(guān)鍵詞:共晶和多晶型的制備及性能研究


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【摘要】:共晶在光電、半導(dǎo)體等材料領(lǐng)域的開發(fā)與應(yīng)用越來越廣泛,本文利用溶液法及溶劑輔助研磨法制備了一系列共晶,并探索其晶體結(jié)構(gòu)、熱力學(xué)性質(zhì)、光學(xué)性質(zhì),以及通過培養(yǎng)查爾酮類化合物的多種晶型,探究超分子結(jié)構(gòu)與光學(xué)性能的關(guān)系。(1)合成1-乙酰基-3-對(duì)甲氧基苯基-5-(9-芘基)-2-吡唑啉(AMPP),1-乙;-3-苯基-5-(9-芘基)-2-吡唑啉(APPP)和1-乙酰基-3-對(duì)甲氧基苯基-5-(1-蒽基)-2-吡唑啉(AMPE)三種吡唑啉化合物,并分別以其作為電子供體,以四氯苯醌為電子受體,制備三種電荷轉(zhuǎn)移共晶。測定其晶體結(jié)構(gòu),發(fā)現(xiàn)共晶Ⅰ和Ⅱ中電子供體(AMPP、APPP)中芘環(huán)與受體TCQ采用面面π-π交替堆積模式,而共晶Ⅲ中AMPE的蒽環(huán)與TCQ采取分裂堆積模式,不存在π重疊。固態(tài)漫反射在長波段均呈現(xiàn)明顯的電荷轉(zhuǎn)移帶,DFT方法PBE1PBE/6-311G基組,直接由單晶結(jié)構(gòu)計(jì)算表面共晶中電荷從稠芳環(huán)向TCQ轉(zhuǎn)移的特點(diǎn)。(2)采用溶劑輔助研磨法,分別將AMPP、APPP、AMPE與TCQ研磨。通過比對(duì)原料、研磨樣品以及溶液法得到的共晶的PXRD,發(fā)現(xiàn)滴加乙腈研磨并沒有得到共晶Ⅰ或共晶Ⅱ,而滴加丙酮可得到共晶Ⅲ。在研磨1:1 AMPE與TCQ發(fā)現(xiàn)PXRD中存在TCQ的峰,而2:1研磨中將不存在,結(jié)合溶液法得到的共晶Ⅲ中單晶結(jié)構(gòu)顯示AMPE與TCQ化學(xué)計(jì)量比為2:1,表明研磨法不僅可發(fā)現(xiàn)共晶,還可推測其中分子比例。(3)設(shè)計(jì)合成了三類查爾酮并制備多種晶型,即查爾酮Ⅰ的兩種晶型(Ⅰa,Ⅰb),查爾酮Ⅱ的四種晶型(Ⅱa, Ⅱb,Ⅱc,Ⅱd),以及查爾酮Ⅲ的四種晶型(Ⅲa,Ⅲb, Ⅲe, Ⅲd)。其中Ⅰa,Ⅱd,Ⅲb和Ⅲd是反式構(gòu)型,Ⅰb,Ⅱb和Ⅱc是順式構(gòu)型,且順式構(gòu)型的晶體熔點(diǎn)要比反式高。此外反式構(gòu)型的晶體,也即Ⅰa,Ⅱd,Ⅲb和Ⅲd都具有熒光,Ⅲb中芘之間存在更強(qiáng)的面對(duì)面傾斜π堆積,因此出現(xiàn)一個(gè)比Ⅲd紅移更顯著的發(fā)射峰。同樣,Ⅱd中蒽發(fā)射團(tuán)采用邊對(duì)面堆積方式,所以比Ⅰa多一個(gè)紅移的新發(fā)射峰。
【關(guān)鍵詞】:共晶 吡唑啉 電荷轉(zhuǎn)移 研磨 查爾酮
【學(xué)位授予單位】:東南大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2016
【分類號(hào)】:TB34
【目錄】:
  • 摘要5-6
  • Abstract6-10
  • 第一章 緒論10-28
  • 1.1 共晶的簡介10
  • 1.2 共晶的制備方法10-18
  • 1.2.1 溶液結(jié)晶法10-12
  • 1.2.1.1 溶液揮發(fā)法11
  • 1.2.1.2 反應(yīng)結(jié)晶法11-12
  • 1.2.1.3 冷結(jié)晶法12
  • 1.2.2 研磨法12-17
  • 1.2.2.1 研磨法制備共晶的種類12-13
  • 1.2.2.2 研磨法制備共晶機(jī)理13-16
  • 1.2.2.3 研磨法制備共晶的優(yōu)點(diǎn)16-17
  • 1.2.3 超聲法17-18
  • 1.2.4 超臨界流體法18
  • 1.2.5 熔融接觸法18
  • 1.3 共晶的檢測方法18-24
  • 1.3.1 單晶X射線衍射18-19
  • 1.3.2 粉末X射線衍射19-20
  • 1.3.3 拉曼光譜20-22
  • 1.3.4 太赫茲時(shí)域光譜22
  • 1.3.5 固體核磁共振分析22-23
  • 1.3.6 吸收光譜分析23
  • 1.3.7 熱分析23-24
  • 1.4 多晶型簡介24-25
  • 1.5 多晶型的表征方法25-26
  • 1.5.1 熱分析25
  • 1.5.2 在線顆粒25-26
  • 1.6 論文研究內(nèi)容及意義26-28
  • 第二章 吡唑啉-TCQ共晶的溶液法制備及其表征28-42
  • 2.1 引言28-29
  • 2.2 實(shí)驗(yàn)試劑與儀器29-30
  • 2.3 分子的合成及共晶的制備30-32
  • 2.3.1 吡唑啉化合物的合成30-31
  • 2.3.2 共晶的制備31-32
  • 2.4 結(jié)果與討論32-40
  • 2.4.1 單晶結(jié)構(gòu)解析32-38
  • 2.4.1.1 共晶Ⅰ34-35
  • 2.4.1.2 共晶Ⅱ35-36
  • 2.4.1.3 共晶Ⅲ36-37
  • 2.4.1.4 粉末X射線衍射37-38
  • 2.4.2 固體漫反射譜38
  • 2.4.3 量化計(jì)算38-39
  • 2.4.4 熱分析39-40
  • 2.5 本章小結(jié)40-42
  • 第三章 共晶的研磨法制備及表征42-50
  • 3.1 引言42-43
  • 3.2 實(shí)驗(yàn)部分43
  • 3.2.1 主要的儀器與試劑43
  • 3.2.2 共晶的制備43
  • 3.3 研磨法所得共晶的表征43-48
  • 3.3.1 形貌43-44
  • 3.3.2 粉末X射線衍射分析44-46
  • 3.3.3 熱力學(xué)表征46-48
  • 3.4 小結(jié)48-50
  • 第四章 查爾酮類的構(gòu)型異構(gòu)及多晶型研究50-72
  • 4.1 引言50
  • 4.2 實(shí)驗(yàn)試劑與儀器50-51
  • 4.3 查爾酮的合成與多晶型的制備51-53
  • 4.3.1 查爾酮Ⅰ的合成及多晶型的制備51-52
  • 4.3.2 查爾酮Ⅱ的合成及多晶型的制備52
  • 4.3.3 查爾酮Ⅲ的合成及多晶型的制備52-53
  • 4.4 結(jié)果與討論53-71
  • 4.4.1 單晶結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)53-56
  • 4.4.2 結(jié)構(gòu)分析56-60
  • 4.4.2.1 晶型Ⅰ_a和Ⅰ_b56-57
  • 4.4.2.2 晶型Ⅱ_b,Ⅱ_c和Ⅱ_d57-58
  • 4.4.2.3 晶型Ⅲ_b和Ⅲ_d58-60
  • 4.4.3 粉末XRD分析60-63
  • 4.4.4 熱力學(xué)分析63-67
  • 4.4.4.1 晶型Ⅰ_a與Ⅰ_b63-64
  • 4.4.4.2 晶型Ⅱ_a,Ⅱ_b,Ⅱ_c,Ⅱ_d以及晶型轉(zhuǎn)換64-66
  • 4.4.4.3 晶型Ⅲ_a,Ⅲ_b,Ⅲ_c和Ⅲ_d66
  • 4.4.4.4 十種晶型熱性質(zhì)總結(jié)66-67
  • 4.4.5 熒光發(fā)射光譜67-69
  • 4.4.6 紫外吸收分析69-70
  • 4.4.7 紅外分析70-71
  • 4.5 小結(jié)71-72
  • 第五章 總結(jié)與展望72-74
  • 參考文獻(xiàn)74-82
  • 碩士期間研究成果82-84
  • 致謝84

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本文編號(hào):1075868

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