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THF-SDS對瓦斯水合分離過程溫度場分布影響

發(fā)布時間:2018-08-16 10:20
【摘要】:為探究THF-SDS復(fù)配溶液對瓦斯水合反應(yīng)過程溫度場影響,利用配備陣列式溫度傳感器的水合反應(yīng)裝置,研究了3組促進(jìn)劑溶液(1 mol/L THF,1 mol/L THF+0.02 mol/L SDS,1 mol/L THF+0.1 mol/L SDS)體系中瓦斯混合氣(85%CH4,7%N2,3%O2,5%CO2)水合分離過程溫度場分布特征。結(jié)果表明:瓦斯水合體系中SDS濃度增加,反應(yīng)放熱速率呈遞增趨勢(0.030~0.230 k J/min);反應(yīng)熱導(dǎo)致水合體系溫度分布發(fā)生變化,體系上層溫度最高,下層溫度最低,體系中SDS濃度越高,溫度梯度越明顯;瓦斯水合物導(dǎo)熱系數(shù)隨體系溫度分布發(fā)生改變(0.529~0.534 W/(m·K)),SDS濃度越高,瓦斯水合物導(dǎo)熱系數(shù)越大。分析認(rèn)為,THF-SDS復(fù)配溶液改善了瓦斯水合分離熱力學(xué)條件,提高了氣-水轉(zhuǎn)化率,影響了不同水合體系溫度場分布。
[Abstract]:In order to study the effect of THF-SDS compound solution on the temperature field of gas hydration reaction process, the temperature field of gas mixture (85% CH4, 7% N2, 3% O2, 5% CO2) hydration separation process in three groups of accelerator solutions (1 mol/L THF, 1 mol/L THF + 0.02 mol/L SDS, 1 mol/L THF + 0.1 mol/L SDS) was studied by using a hydration reaction device equipped with an array temperature sensor. The results show that the reaction heat release rate increases with the increase of SDS concentration in gas hydrate system (0.030-0.230 K J/min); the reaction heat causes the change of temperature distribution in gas hydrate system; the upper layer temperature is the highest, the lower layer temperature is the lowest; the higher the SDS concentration in the system, the more obvious the temperature gradient; the thermal conductivity of gas hydrate increases with the system. Temperature distribution changes (0.529-0.534 W/(m.K)). The higher the concentration of SDS, the greater the thermal conductivity of gas hydrate.
【作者單位】: 黑龍江科技大學(xué)安全工程學(xué)院;瓦斯等烴氣輸運(yùn)管網(wǎng)安全基礎(chǔ)研究國家級專業(yè)中心實(shí)驗(yàn)室;中國礦業(yè)大學(xué)煤礦瓦斯治理國家工程研究中心;黑龍江科技大學(xué)建筑工程學(xué)院;
【基金】:國家自然科學(xué)基金重點(diǎn)資助項(xiàng)目(51334005);國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51174264,51104062)
【分類號】:TD712

【參考文獻(xiàn)】

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【共引文獻(xiàn)】

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【二級參考文獻(xiàn)】

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本文編號:2185690

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